[发明专利]一种基于全域哈希的层次标识密码密钥生成方法有效

专利信息
申请号: 202110102032.2 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN112929164B 公开(公告)日: 2022-06-17
发明(设计)人: 石典佑 申请(专利权)人: 湖南安方信息技术有限公司
主分类号: H04L9/08 分类号: H04L9/08
代理公司: 长沙大珂知识产权代理事务所(普通合伙) 43236 代理人: 伍志祥
地址: 410205 湖南省长沙市长沙高新开发区谷*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 全域 层次 标识 密码 密钥 生成 方法
【说明书】:

发明公开了一种基于全域哈希的层次标识密码密钥生成方法,根密钥生成机构root PKG进行系统初始化,生成系统主私钥和主公钥,公开系统公共参数Param并发布;root PKG根据预计的PKG个数,建立大小为m×n的元私钥矩阵Mpri,以存储GS‑HIBE系统中每个节点为子节点生成私钥选取的随机数;建立对应的元公钥矩阵Mpub;根节点root PKG为第一层PKG生成私钥和私钥矩阵;父密钥生成机构和根密钥生成机构为第一层以下密钥生成机构生成私钥和私钥矩阵。本发明利用组合公钥的思想进行层次PKG本层公钥的统一管理,将各层密钥生成器随机生成的公私钥信息统一存储在矩阵中,实现了经典层次式基于身份标识密码系统随机数带来的难以认证问题,加强了系统的鲁棒性,提升了系统的抗攻击能力。

技术领域

本发明属于计算机网络安全技术领域,尤其是涉及基于全域哈希的层次式身份标识密码密钥生成方法。

背景技术

层次式标识密码系统(HIBC,Hierarchical ID-Based Cryptography)在单层IBC的基础上,引入了层次的概念,分散了密钥生成机构的负载,在一定程度上解决了密钥管理单点失效问题,提高了系统的鲁棒性。

基于全域哈希构造的层次标识密码私钥长度短且保持定长,在云计算、区块链以及协同医疗等领域有着广泛的研究和应用。其中最著名的是Gentry和Silverberg等学者提出GS-HIBE方案,但是该方案存在层次私钥管理鲁棒性差的问题。GS-HIBE方案中子密钥生成机构PKG(Private Key Generator)层次私钥的一部分由父PKG自主生成的随机数生成,此随机数及其对应的公钥信息无第三方认证。因此,若攻击者攻破了任意一个PKG,即可随意伪造以该PKG作为根节点的子树中所有用户的私钥。

发明内容

本发明提出了一种基于全域哈希的层次标识密码生成技术,基于GS-HIBE算法架构,根密钥生成机构root PKG利用组合公钥的思想进行层次PKG本层公钥的集中存储与统一管理,将经典HIBE算法中各层密钥生成器(PKG)随机生成的公私钥信息统一存储在矩阵中,实现了经典层次式基于身份标识密码系统随机数带来的难以认证问题,加强了系统的鲁棒性,提升了系统的抗攻击能力。

本发明提出一种基于全域哈希的层次标识密码密钥生成方法,包括如下步骤:

根密钥生成机构root PKG进行系统初始化,生成系统主私钥和主公钥,公开系统公共参数Param并发布;同时,root PKG根据预计的PKG个数,建立大小为m×n的元私钥矩阵Mpri,以存储GS-HIBE系统中每个节点为子节点生成私钥选取的随机数;建立对应的元公钥矩阵Mpub

根节点root PKG为第一层PKG生成私钥和私钥矩阵;

父密钥生成机构和根密钥生成机构为第一层以下密钥生成机构生成私钥和私钥矩阵;

最终用户密钥分发,用于分发最终用户的密钥。

进一步的,在所述系统初始化步骤中,根密钥生成机构root PKG根据输入系统安全系数,生成初始化系统参数G1,G2,GT,P,H1,H2,e,其中G1和G2为q阶素数加法群,P为G1群的生成元,GT为q阶素数乘法群,e为G1上元素和G2上元素到GT的双线性对映射,H1,H2为安全哈希函数,H1:{0,1}*→G2,H2:{0,1}*→{1,...,m}n

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南安方信息技术有限公司,未经湖南安方信息技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110102032.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top