[发明专利]防伪纸张的制造设备和防伪纸张

说明书

本发明提供了一种防伪纸张的制造设备和防伪纸张。防伪纸张的制造设备包括：纸张输送装置，纸张输送装置用于带动纸张移动，使纸张顺次经过施胶装置、渗透缓冲装置、曝光装置、显影装置和干燥装置；施胶装置，施胶装置用于在纸张的至少部分表面施加光敏材料；渗透缓冲装置，渗透缓冲装置用于使光敏材料渗透进入纸张；曝光装置，曝光装置用于对纸张进行局部图案化地曝光处理；显影装置，显影装置用于至少局部洗脱纸张之上的光敏材料；干燥装置，干燥装置用于对纸张进行干燥处理。通过本发明的技术方案获得的防伪纸张具有优异的防伪效果。

技术领域

本发明涉及防伪产品的技术领域，具体而言，涉及防伪纸张的制造设备、防伪纸张的制造方法和防伪纸张。

背景技术

相关技术中的防伪纸张通常设有防伪视窗。部分防伪视窗的制作是采用模切的方法在干燥纸张上切口形成。因此其难以形成精细图案，较易被伪造。另有部分防伪视窗的制作是在抄纸过程中采用不沉积纸浆的方式形成的，也同样存在难以形成精细图案的问题。还有部分防伪视窗的制作采用浸渍的方法，通过在纸张纤维空隙中填充有机物质形成透明纸，同样存在难以形成精细图案且容易被伪造的问题。

发明内容

本发明旨在解决上述技术问题的至少之一。

为此，本发明的第一方面提供了一种防伪纸张的制造设备。

本发明的第二方面提供了一种防伪纸张的制造方法。

本发明的第三方面提供了一种防伪纸张。

为实现本发明的第一方面，本发明的实施例提供了一种防伪纸张的制造设备，包括：纸张输送装置，纸张输送装置用于带动纸张移动，使纸张顺次经过施胶装置、渗透缓冲装置、曝光装置、显影装置和干燥装置；施胶装置，施胶装置用于在纸张的至少部分表面施加光敏材料；渗透缓冲装置，渗透缓冲装置用于使光敏材料渗透进入纸张；曝光装置，曝光装置用于对纸张进行局部图案化地曝光处理；显影装置，显影装置用于至少局部洗脱纸张之上的光敏材料；干燥装置，干燥装置用于对纸张进行干燥处理。

本实施例能够在纸张的局部表面或全部表面形成精细的塑料化的防伪图案，其图案精细、难以伪造，防伪性能优异。

另外，本发明上述技术方案还可以具有如下附加技术特征：

上述技术方案中，曝光装置包括：图案生成装置，图案生成装置用于限定出纸张的待曝光区域；辐照光源，辐照光源用于对待曝光区域进行辐照。

图案生成装置施加或覆盖于纸张的至少部分表面，以由此限定出纸张的待曝光区域，辐照光源可向由图案生成装置限定出的待曝光区域施加光照，以使得待曝光区域的光敏材料发生光固化反应，并形成精细的局部图案。

上述任一技术方案中，辐照光源的辐照光波长范围为190纳米至510纳米。

190纳米至510纳米的长波紫外光或短波可见光能够使得光敏材料被有效固化，保证局部精细化图案清晰完整。

上述任一技术方案中，图案生成装置包括：光掩膜，光掩膜具有图案，并用于覆盖纸张施加光敏材料的区域，以通过图案限定出待曝光区域；或投影装置，投影装置用于在纸张施加有光敏材料的区域进行投影以形成待曝光区域。

光掩膜或投影装置均能够形成或表征出较为精细化、边界更为清晰细致的图案，因此，本技术方案能够进一步提高防伪图案的精细化程度，提高纸张的防伪效果。

上述任一技术方案中，光掩膜为以整卷方式运行的柔性光掩膜，曝光装置还包括光掩膜放卷装置和光掩膜收卷装置，光掩膜放卷装置和光掩膜收卷装置相互配合，以向纸张施加柔性光掩膜；或光掩膜为以闭环方式循环运行的柔性光掩膜，曝光装置还包括光掩膜拼接装置和循环运行装置，光掩膜拼接装置和循环运行装置相互配合，以向纸张施加柔性光掩膜；或光掩膜为平板型光掩膜，曝光装置还包括光掩膜套准装置，光掩膜套准装置用于将平板型光掩膜和纸张相互对准。