[发明专利]饱水层的基坑施工方法有效

专利信息
申请号: 202110031340.0 申请日: 2021-01-11
公开(公告)号: CN112854231B 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 王建伟;刘沛佐;李成刚;张志威;于长龙;孟凡松;李欢 申请(专利权)人: 中国建筑第八工程局有限公司
主分类号: E02D17/02 分类号: E02D17/02;E02D17/04;E02D19/10
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 宋小光
地址: 200122 上海市浦东新区中国*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 水层 基坑 施工 方法
【说明书】:

发明涉及一种饱水层的基坑施工方法,该基坑位于地下结构的底板下方,该施工方法包括如下步骤:S11.在待施工基坑的区域周围施工形成支护结构,且该支护结构的顶部与位于待施工的基坑的顶部标高处;S12.开挖支护结构围合的区域内的土体至设定标高处,并沿支护结构的侧部浇筑形成护壁,从而于护壁围合的区域内形成基坑;S13.于基坑的底部施工形成降水井,以收集基坑内的积水并向外排出。本发明有效地解决了饱水层中施工基坑困难的问题,不仅能够保证基坑的稳定性,还能防止基坑中出现大量积水,保证了施工安全,提高了施工效率,保证了施工质量。

技术领域

本发明涉及建筑施工领域,特指一种饱水层的基坑施工方法。

背景技术

随着社会发展,越来越多的建筑建造在靠近河道的位置,但临近河道位置的土质多为粉土、粉砂,这种饱水层中会存在大量残留滞水,饱水率很高,在建筑施工的过程中,通常需要在建筑物的底板处形成一些局部深坑,如集水坑或电梯坑等,这些基坑的地面标高要远低于底板的标高,在施工这些基坑时,由于饱水层含水量高且土体松软,导致基坑开挖异常困难,在饱水层中不仅难以保证基坑的稳定性,还容易出现大量积水的问题,施工质量和施工进度难以保证。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的缺陷,提供一种饱水层的基坑施工方法,解决了饱水层中施工基坑困难的问题,不仅能够保证基坑的稳定性,还能防止基坑中出现大量积水,保证了施工安全,提高了施工效率,保证了施工质量。

实现上述目的的技术方案是:

本发明提供了一种饱水层的基坑施工方法,包括如下步骤:

S11.在待施工基坑的区域周围施工形成支护结构,且该支护结构的顶部位于待施工的基坑的顶部标高处;

S12.开挖支护结构围合的区域内的土体至设定标高处,并沿支护结构的侧部浇筑形成护壁,从而于护壁围合的区域内形成基坑;

S13.于基坑的底部施工形成降水井,以收集基坑内的积水并向外排出。

本发明采用饱水层的基坑施工方法,通过沿支护结构的侧部浇筑形成护壁,以对基坑起到支撑的作用,从而保证基坑整体的稳定性,防止基坑变形,另外在基坑的底部施工形成降水井,基坑中的积水汇聚至降水井中,进而可通过排水管等装置排入城市排水系统或其他排水系统中,从而防止基坑中大量积水,有效地解决了饱水层中施工基坑困难的问题,不仅能够保证基坑的稳定性,还能防止基坑中出现大量积水,保证了施工安全,提高了施工效率,保证了施工质量。

本发明饱水层的基坑施工方法的进一步改进在于,开挖土体时,还包括:

S121.将支护结构围合的区域由上至下划分为若干区,且该若干区的横截面积由上至下依次减小;

S122.开挖N区的土体以形成N区空间,并沿N区空间的侧壁浇筑形成N区护壁,其中N为1;

S123.于待开挖的N+1区的周围施工形成N+1支护结构,且N+1支护结构的顶部与N区空间的底面平齐;

S124.开挖N+1区的土体以形成N+1区空间,并沿N+1区空间的侧壁浇筑形成N+1区护壁;

接着令N=N+1并执行步骤S123~S124,重复步骤S123~S124直至形成基坑。

本发明饱水层的基坑施工方法的进一步改进在于,开挖最底层的区域时,还包括:

向下超挖设定深度以形成超挖区,于超挖区内支设降水井模板,进而于降水井模板的外侧浇筑混凝土以填充超挖区,并形成降水井。

本发明饱水层的基坑施工方法的进一步改进在于,该超挖区的中部向下凹陷呈碗状。

本发明饱水层的基坑施工方法的进一步改进在于,还包括:

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