[发明专利]振打自清洁沉淀装置

说明书

本发明为一种振打自清洁沉淀装置，该振打自清洁沉淀装置包括沉淀池和填料框架，所述填料框架能活动地设置于所述沉淀池内，所述填料框架内填充有填料，所述填料框架上设置有检测所述填料框架位移信息的位移传感器和能带动所述填料框架在所述沉淀池内发生振动的至少一个振打器。本发明解决了沉淀池内的填料易被污堵且不易发现，造成填料净水能力下降、使用周期缩短的技术问题。

技术领域

本发明涉及水处理技术领域，尤其涉及一种振打自清洁沉淀装置。

背景技术

斜板(或斜管)沉淀池是利用“浅层理论”，在沉淀池中加设斜板或者斜管填料，以提高沉淀效率的一种沉淀池。在水处理设施实际运行过程中，斜板(或斜管)沉淀池在不同工艺应用中都可能出现以下问题：

一、污泥在斜板或斜管内堵塞，如果没有及时采取适当的措施会导致污泥在斜板或斜管的顶部大量沉积并且向周围扩散，导致污泥无法正常从泥斗排出；

二、污泥在斜板或斜管内堵塞，会使沉淀池中有气泡冒出并且伴随大片的浮渣漂起，出水夹带大量的颗粒物造成水质恶化；

三、污泥在斜板或斜管内堵塞，严重的情况下会将斜板或斜管挤压变形，设备出水水质持续恶化，甚至会压垮填料支架导致填料坍塌，造成停运设备，严重影响生产的稳定。

上述问题都与斜管或斜板填料的污堵有关。传统的斜管或斜板填料固定在填料支架上方，填料支架固定于沉淀池的内壁上并浸没于水中，在沉淀池运行过程中，填料被污堵初期往往不容易发现，当可直观察看到填料发生堵塞时，污堵已经非常严重，此时往往已经造成填料变形、坍塌，导致填料报废，沉淀装置只能进行停产更换填料。因此，急需一种能实时反映填料污堵状态的沉淀装置，能够及时发现填料污堵并判断污堵方位，并通过自动冲洗将填料内的污泥冲洗干净，使填料恢复净水功能，避免被污泥堵塞产生变形和垮塌。

针对相关技术中沉淀池内的填料易被污堵且不易发现，造成填料净水能力下降、使用周期缩短的问题，目前尚未给出有效的解决方案。

由此，本发明人凭借多年从事相关行业的经验与实践，提出一种振打自清洁沉淀装置，以克服现有技术的缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提供一种振打自清洁沉淀装置，能够活动地设置于沉淀池内，并根据沉淀池填料发生污堵后引起填料重量变化，并且在垂直方向移动产生垂直位移，使得工作人员能够快速、及时地发现填料上污泥粘附的程度，并控制振打器对填料框架进行机械振动，使填料框架内的填料产生高频剧烈振动，从而将粘附的污泥振动剥离，使被污堵的填料恢复正常使用，保证填料的净水能力，有效延长填料的使用周期。

本发明的目的可采用下列技术方案来实现：

本发明提供了一种振打自清洁沉淀装置，所述振打自清洁沉淀装置包括沉淀池和填料框架，其中：

所述填料框架能活动地设置于所述沉淀池内，所述填料框架内填充有填料，所述填料框架上设置有检测所述填料框架位移信息的位移传感器和能带动所述填料框架在所述沉淀池内发生振动的至少一个振打器。

在本发明的一较佳实施方式中，所述振打自清洁沉淀装置还包括控制器，所述控制器的检测信号接收端与所述位移传感器的检测信号输出端电性连接，所述控制器的控制信号输出端与所述振打器的控制端电性连接。

在本发明的一较佳实施方式中，所述振打自清洁沉淀装置还包括水平仪，所述水平仪设置于所述填料框架的顶部中间位置，且所述水平仪的数据显示窗口位于水面上方。

在本发明的一较佳实施方式中，所述填料框架与所述沉淀池的内壁之间留有间隙，且在所述间隙的顶部位置设置有第一随动密封板。