[发明专利]一种真空管前处理设备

权利要求书

1.一种真空管前处理设备，其结构包括控制器(1)、处理装置(2)、闭合盖(3)、取送器(4)，所述处理装置(2)底端螺栓连接于控制器(1)顶端中心处，所述闭合盖(3)末端活动连接与处理装置(2)前端内壁两侧，所述取送器(4)底端嵌固连接于处理装置(2)顶端中心处，其特征在于：

所述处理装置(2)包括外罩(21)、照射板(22)、检测棒(23)，所述照射板(22)底端嵌固连接于外罩(21)中部内壁上表面，所述检测棒(23)底端嵌合连接于外罩(21)内壁底端中心两侧处。

2.根据权利要求1所述的一种真空管前处理设备，其特征在于：所述检测棒(23)包括底座(231)、底板(232)、棒壳(233)、连接块(234)、弹簧(235)，所述底板(232)底端嵌固连接于底座(231)顶端内部，所述棒壳(233)外壁嵌合于底板(232)内壁中，所述连接块(234)外壁卡合于棒壳(233)内壁中，所述弹簧(235)间隙配合于连接块(234)内部。

3.根据权利要求2所述的一种真空管前处理设备，其特征在于：所述连接块(234)包括固定块(a1)、连接片(a2)、阻挡块(a3)、外板(a4)、接触机构(a5)，所述连接片(a2)顶端嵌固连接于固定块(a1)底端两侧，所述阻挡块(a3)外围卡合于连接片(a2)内壁中，所述外板(a4)顶端两侧嵌固连接于连接片(a2)末端下，所述接触机构(a5)内壁内嵌连接于外板(a4)外围壁内。

4.根据权利要求3所述的一种真空管前处理设备，其特征在于：所述阻挡块(a3)包括圆块(b1)、凹槽块(b2)、阻挡片(b3)，所述凹槽块(b2)外壁内侧活动配合于圆块(b1)外壁内，所述阻挡片(b3)的末端嵌固连接于凹槽块(b2)内壁两侧。

5.根据权利要求3所述的一种真空管前处理设备，其特征在于：所述接触机构(a5)包括接触片(c1)、连接轴(c2)、缓冲机构(c3)、连接柱(c4)，所述连接轴(c2)中心下端嵌固连接于接触片(c1)上端内壁中心处，所述缓冲机构(c3)内壁活动配合于连接轴(c2)外围内部，所述连接柱(c4)顶端嵌固连接于缓冲机构(c3)侧端。

6.根据权利要求5所述的一种真空管前处理设备，其特征在于：所述缓冲机构(c3)包括连接环(d1)、壳体(d2)、弹片(d3)、囊体(d4)，所述壳体(d2)底端外围嵌固连接于连接环(d1)顶端外围上，所述弹片(d3)底端嵌合连接于壳体(d2)内壁底端两侧，所述囊体(d4)两侧内嵌连接于弹片(d3)上端中部位置。