[发明专利]磁固定件、基板支撑组件和用于将边缘支撑框架固定到工作台框架的方法

说明书

描述了一种用于将边缘支撑框架(ESF)固定到沉积设备的工作台框架的磁固定件。所述磁固定件包括：第一构件，所述第一构件具有磁体；和第二构件，所述第二构件具有磁元件。所述第一构件和所述第二构件各自耦接到所述工作台框架和所述ESF中的至少一者，其中在所述第一构件与所述第二构件之间的磁力被构造为将所述ESF固定到所述工作台框架。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及一种磁固定件，特别是一种将边缘支撑框架(ESF)固定到沉积设备的工作台框架的磁固定件。本公开内容的实施方式还涉及一种包括工作台框架、ESF和多个磁固定件的基板支撑组件。本公开内容的实施方式还涉及一种用于特别是通过提供磁固定件的多个第一构件和多个第二构件来将ESF固定到工作台框架的方法。

背景技术

已知用于将材料沉积在基板上的若干方法。例如，可通过使用蒸镀工艺、物理气相沉积(PVD)工艺(诸如溅射工艺、喷涂工艺等)或化学气相沉积(CVD)工艺来涂覆基板。上面沉积有材料的基板、即要涂覆的基板被引入真空处理系统的真空腔室中并相对于该真空处理系统的真空腔室的处理区域定位。例如，涂覆工艺可在真空腔室中进行。

例如在显示器制造技术中，大面积基板可考虑涂覆工艺，即材料沉积工艺。所涂覆的基板可进一步用在若干技术领域中的应用中，例如用在微电子器件中、用在半导体装置的生产中、用于具有薄膜晶体管的基板，而且用于绝缘面板等。朝更大的显示器的趋势(例如，在制造更大的显示器中)带来更大的真空处理系统。

在涂覆工艺中，基板可被固持在基板支撑件中。基板与基板支撑件的耦接可涉及执行夹紧功能的机械固定件。鉴于上文，提供一种用于将ESF耦接到沉积设备的工作台框架的改善的固定件是有益的。

发明内容

根据一方面，描述了一种用于将边缘支撑框架固定到沉积设备的工作台框架的磁固定件。所述磁固定件包括：第一构件，所述第一构件具有磁体；和第二构件，所述第二构件具有磁元件。所述第一构件和所述第二构件各自耦接到所述工作台框架和所述边缘支撑框架中的至少一者，其中在所述第一构件与所述第二构件之间的磁力被构造为将所述边缘支撑框架固定到所述工作台框架。

根据一方面，描述了一种基板支撑组件。所述组件包括：工作台主体；工作台框架，所述工作台框架耦接到所述工作台主体；和边缘支撑框架，所述边缘支撑框架被支撑以相对于所述工作台框架可移动并具有多个凹陷部。所述基板支撑组件具有多个磁固定件，所述多个磁固定件包括：多个第一构件，所述多个第一构件包括磁体；和多个第二构件，所述多个第二构件包括磁元件。所述第一构件和所述第二构件中的至少一者设置在所述多个凹陷部中。

根据一方面，描述了一种用于将边缘支撑框架固定到沉积设备的工作台框架的方法。所述方法包括提供磁固定件的耦接到所述工作台框架的多个第一构件。所述第一构件各自包括磁体。所述方法包括提供所述磁固定件的耦接到所述边缘支撑框架的多个第二构件。所述第二构件各自具有磁元件。所述多个第一构件和所述多个第二构件被布置成使得当所述边缘支撑框架被施加到所述工作台框架时，每个第一构件面向第二构件。所述方法进一步包括将所述边缘支撑框架施加到所述工作台框架。在所述第一构件与所述第二构件之间的多个磁力将所述边缘支撑框架固定到所述工作台框架。

附图说明

为了可详细地理解本公开内容的上文陈述的特征结构，可参考实施方式来得到上文简要地概述的本公开内容的更特别的描述。附图涉及本公开内容的实施方式并在下文中进行描述。

图1示出了根据本公开内容的实施方式的固定件的示意性截面侧视图；

图2示出了根据本公开内容的实施方式的固定件的示意性截面侧视图；

图3示出了根据本公开内容的实施方式的固定件的第一构件的示意性俯视图；

图4示出了根据本公开内容的实施方式的固定件的第二构件的示意性俯视图；

图5示出了根据本公开内容的实施方式的局部基板支撑组件的示意性俯视图；