[发明专利]自动分析系统、控制装置及清洗方法在审

专利信息
申请号: 202080094146.0 申请日: 2020-11-06
公开(公告)号: CN115004039A 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 森高通;龟山大树;伊藤匠;高桥健一;大泷智正 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: G01N35/10 分类号: G01N35/10
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;范胜杰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 自动 分析 系统 控制 装置 清洗 方法
【权利要求书】:

1.一种自动分析系统,其特征在于,具有:

自动分析部和控制部,

所述自动分析部具有:

探针部,其进行检体的吸引和排出;以及

清洗部,其具有使所述探针部至少从收纳有所述检体的检体容器的位置向被分注有所述检体的反应容器的位置移动的探针移动部,并进行第1清洗,所述第1清洗是在从所述检体容器吸引所述检体与向所述反应容器排出所述检体之间,对所述探针部的周围排出清洗液,

所述控制部在规定的检查项目中控制所述第1清洗中的所述清洗液的排出和停止。

2.根据权利要求1所述的自动分析系统,其特征在于,

在由所述自动分析部进行的检查是特定的检查即第1检查的情况下,所述控制部使所述清洗部进行所述第1清洗,

在由所述自动分析部进行的检查是所述第1检查以外的检查即第2检查的情况下,所述控制部使所述清洗部进行第2清洗,所述第2清洗是在从所述检体容器吸引所述检体与向所述反应容器排出所述检体之间,不对所述探针部的外侧排出所述清洗液。

3.根据权利要求2所述的自动分析系统,其特征在于,

所述控制部在进行了所有的所述第2清洗之后进行所述第1清洗。

4.根据权利要求1所述的自动分析系统,其特征在于,

所述控制部在所述第1清洗中,在使所述探针部的移动停止之后,进行所述探针部的清洗。

5.根据权利要求4所述的自动分析系统,其特征在于,

所述清洗部从下方向上方排出所述清洗液,

所述控制部在所述第1清洗中,在所述探针部到达所述清洗部的位置之前,进行所述清洗液的排出。

6.根据权利要求1所述的自动分析系统,其特征在于,

所述控制部在所述第1清洗中,不使所述探针部的移动停止地进行所述探针部的清洗。

7.根据权利要求6所述的自动分析系统,其特征在于,

所述控制部在以规定的移动速度即第1移动速度开始所述探针部的移动之后,在进行所述探针部的清洗之前,将所述探针部的移动速度设为比所述第1移动速度慢的第2移动速度。

8.根据权利要求1所述的自动分析系统,其特征在于,

所述控制部根据由所述自动分析部进行的检查,调整所述探针部中的所述检体的吸引时间,

所述吸引时间越短,所述控制部将在所述第1清洗中进行的清洗的时间设定得越长。

9.根据权利要求1所述的自动分析系统,其特征在于,

所述控制部在所述第1清洗中进行第11清洗和第12清洗,所述第11清洗是在从所述检体容器吸引所述检体与向所述反应容器排出所述检体之间,对所述探针部的周围排出清洗液,所述第12清洗是在完成向所述反应容器排出所述检体后对所述探针部的周围排出清洗液,

所述第1清洗分为多个循环,

所述第11清洗和所述第12清洗分别以不同的循环执行。

10.根据权利要求9所述的自动分析系统,其特征在于,

所述第11清洗和所述第12清洗在各自执行的循环中,在同一定时执行。

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