[发明专利]用于水族箱的挠性清洁装置和方法在审

专利信息
申请号: 202080092017.8 申请日: 2020-12-04
公开(公告)号: CN115397236A 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 贝恩德·瓦尔迈尔;卡特娅·贡特拉赫 申请(专利权)人: 斯派克初姆布兰斯有限公司
主分类号: A01K63/10 分类号: A01K63/10;A01K63/00;B08B1/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张丽娜
地址: 美国威*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 水族箱 清洁 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种用于对水族箱壁的内表面进行清洁的水族箱清洁装置,所述清洁装置包括:

(a)清洁本体,所述清洁本体具有清洁表面、相反的外表面以及在所述清洁表面与所述外表面之间延伸的侧壁;所述清洁表面在所述清洁本体不受力时包含在第一平面内;

(i)在所述清洁本体内保持有第一磁体布置结构;

(ii)所述清洁本体在受到外力时能够围绕所述第一平面弹性地挠曲;

(b)手柄构件,所述手柄构件具有壁接合表面、相反的外表面以及在所述壁接合表面与所述外表面之间延伸的手柄侧壁;所述壁接合表面在所述手柄构件不受力时包含在第二平面内;

(i)在所述手柄构件内保持有第二磁体布置结构,并且所述第二磁体布置结构定位成在所述清洁本体的所述清洁表面和所述手柄构件的所述壁接合表面处于彼此相对时吸引所述第一磁体布置结构;并且

(ii)所述手柄构件在受到外力时能够围绕所述第二平面弹性地挠曲。

2.根据权利要求1所述的清洁装置,其中:

(a)所述清洁本体在所述清洁本体中具有第一凹部布置结构,以允许围绕所述第一平面具有挠性;并且

(b)所述手柄构件在所述手柄构件中具有第二凹部布置结构,以允许围绕所述第二平面具有挠性。

3.根据权利要求2所述的清洁装置,其中,所述第一凹部布置结构在所述清洁本体中包括挠性区域,所述挠性区域包括与一个或更多个翅片交替的多个凹部。

4.根据权利要求3所述的清洁装置,其中,所述清洁本体包括彼此间隔开的多个挠性区域,每个挠性区域具有与一个或更多个翅片交替的多个凹部。

5.根据权利要求2至4中的任一项所述的清洁装置,其中,所述第一凹部布置结构从所述清洁表面延伸到所述清洁本体和所述侧壁中,并且不延伸到所述外表面中。

6.根据权利要求2至5中的任一项所述的清洁装置,其中,所述清洁本体的所述外表面是实心的且无凹部的。

7.根据权利要求4所述的清洁装置,其中,在所述清洁本体中具有至少三个挠性区域,所述至少三个挠性区域由非挠性区域彼此间隔开。

8.根据权利要求7所述的清洁装置,其中,所述第一磁体布置结构在所述清洁本体中、在所述非挠性区域中的至少一个非挠性区域中包括至少一个磁体。

9.根据权利要求8所述的清洁装置,其中,所述清洁本体的所述非挠性区域中的每个非挠性区域中具有至少一个磁体。

10.根据权利要求2至9中的任一项所述的清洁装置,其中,所述第二凹部布置结构在所述手柄构件中包括挠性部段,所述挠性部段包括与一个或更多个翅片交替的多个凹部。

11.根据权利要求10所述的清洁装置,其中,所述手柄构件包括彼此间隔开的多个挠性部段,每个挠性部段具有与一个或更多个翅片交替的多个凹部。

12.根据权利要求11所述的清洁装置,其中:

(a)至少三个挠性部段从所述壁接合表面部分地延伸到所述手柄构件和所述手柄侧壁中;并且

(b)至少三个挠性部段从所述外表面部分地延伸到所述手柄构件和所述手柄侧壁中。

13.根据权利要求12所述的清洁装置,其中,在所述手柄构件中,各个挠性部段之间是非挠性部段。

14.根据权利要求13所述的清洁装置,其中,所述第二磁体布置结构在所述手柄构件中、在所述非挠性部段中的至少一个非挠性部段中包括至少一个磁体。

15.根据权利要求13和14中的任一项所述的清洁装置,其中,所述手柄构件的所述非挠性部段中的每个非挠性部段中具有至少一个磁体。

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