[发明专利]处理液、图案形成方法

权利要求书

1.一种处理液，其为用于对由感光化射线或感放射线性组合物获得的抗蚀剂膜进行曝光后的显影及清洗中的至少一种处理的抗蚀剂膜图案化用处理液，所述处理液包含：

满足下述条件A的第一有机溶剂及满足下述条件B的第二有机溶剂，

条件A：由式(1)求出的SP值为15.0MPa^1/2以上且小于16.5MPa^1/2，

并且为烃类溶剂、酯类溶剂、醚类溶剂或碳酸酯类溶剂

式(1)：SP值＝((δd)²+(δp)²+(δh)²)^0.5

SP值：有机溶剂的汉森溶解度参数

δd：有机溶剂的分散项

δp：有机溶剂的极性项

δh：有机溶剂的氢键项

条件B：

由所述式(1)求出的SP值为16.5MPa^1/2以上且小于17.6MPa^1/2，

由式(2)求出的X为7.0以上且小于20.0，

并且为烃类溶剂、酯类溶剂、醚类溶剂或碳酸酯类溶剂

式(2)：X＝(δp)²/((δd)²+(δp)²+(δh)²)×100。

2.根据权利要求1所述的处理液，其中，

所述第一有机溶剂为碳数6～12的醚类溶剂。

3.根据权利要求1或2所述的处理液，其中，

所述第二有机溶剂为碳数5～8的酯类溶剂或碳数5～9的碳酸酯类溶剂。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的处理液，其中，

所述第一有机溶剂为具有支链状的烷基的碳数6～12的醚类溶剂。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的处理液，其中，

所述第二有机溶剂为具有支链状的烷基的碳数5～8的酯类溶剂。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的处理液，其中，

所述第一有机溶剂选自二异丙基醚、二异丁基醚、二异戊基醚、异丙基丙基醚、异丙基正丁基醚、正丙基异丁基醚、异丙基异丁基醚、异丙基异戊基醚、异丁基异戊基醚、正丁基异戊基醚及正戊基异戊基醚中。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的处理液，其中，

所述第二有机溶剂选自甲酸叔丁酯、甲酸异戊酯、甲酸1,1-二甲基丙酯、甲酸2,2-二甲基丙酯、甲酸2-甲基丁酯、丙酸异丙酯及丙酸异戊酯、碳酸二乙酯、碳酸二丙酯、碳酸二异丙酯、碳酸二丁酯、碳酸二异丁酯、碳酸二叔丁酯及碳酸乙基异戊酯中。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的处理液，其中，

所述第一有机溶剂和所述第二有机溶剂满足式(3)的关系，

式(3)：5.0℃＜bp1-bp2＜100.0℃

bp1：第一有机溶剂的沸点

bp2：第二有机溶剂的沸点。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的处理液，其中，

所述感光化射线或感放射线性组合物包含具有羟基苯乙烯系重复单元的树脂。

10.一种图案形成方法，其包括：

使用感光化射线或感放射线性组合物来形成抗蚀剂膜的抗蚀剂膜形成工序；

对所述抗蚀剂膜进行曝光的曝光工序；及

通过权利要求1至8中任一项所述的处理液对经过露光的所述抗蚀剂膜进行处理的处理工序。

11.一种图案形成方法，其包括：

使用感光化射线或感放射线性组合物来形成抗蚀剂膜的抗蚀剂膜形成工序；

对所述抗蚀剂膜进行曝光的曝光工序；及

对经过露光的所述抗蚀剂膜进行处理的处理工序，

所述处理工序具备：

通过显影液进行显影的显影工序；及

通过淋洗液进行清洗的冲洗工序，

所述淋洗液为权利要求1至8中任一项所述的处理液。