[发明专利]自动分析装置在审
| 申请号: | 202080083659.1 | 申请日: | 2020-12-02 |
| 公开(公告)号: | CN114787634A | 公开(公告)日: | 2022-07-22 |
| 发明(设计)人: | 堀江阳介;越智学;村松由规;川原铁士;南礼孝;浜田大辉 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号: | G01N35/10 | 分类号: | G01N35/10 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;范胜杰 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 自动 分析 装置 | ||
1.一种自动分析装置,具备:
分注机构,其包括将试样或试剂分注到反应容器的分注探头;
排出口,其向所述分注探头的外表面排出清洗液;
液量变更单元,其变更向所述排出口供给的清洗液量;
清洗液检测单元,其设置于所述分注机构;以及
控制部,其控制所述分注探头、所述液量变更单元以及所述清洗液检测单元,
在清洗所述分注探头时,所述控制部进行如下控制:
在将所述分注探头的前端的高度设为第一位置的状态下,从所述排出口排出基准液量的清洗液,由此,以处于从所述第一位置到该第一位置的上方的第二位置的所述分注探头的外表面为目标使所述清洗液接触,
其特征在于,
在调整清洗液量时,所述控制部进行如下控制:
在将所述分注探头的前端的高度设为所述第二位置以上的状态下,通过所述液量变更单元变更清洗液量;以及
将所述清洗液检测单元检测到所述清洗液时的清洗液量作为调整后液量来更新所述基准液量。
2.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,
所述液量变更单元是设置于从泵到所述排出口的流路的中途的电磁阀,
在清洗所述分注探头时,所述控制部将所述电磁阀控制为基准开度而从所述排出口排出清洗液,
在调整清洗液量时,所述控制部使所述电磁阀的开度逐渐增大,将所述清洗液检测单元开始检测到所述清洗液时的所述电磁阀的开度作为调整后开度,来更新所述基准开度。
3.根据权利要求1或2所述的自动分析装置,其特征在于,
所述清洗液检测单元是检测所述分注探头的静电电容来检测液面的液面检测器。
4.根据权利要求1或2所述的自动分析装置,其特征在于,
所述自动分析装置具有:
注射器,其进行所述试样或试剂的吸引和排出;以及
压力传感器,其设置于连接所述注射器和所述分注探头的流路,检测所述流路内的压力,
所述清洗液检测单元是所述压力传感器。
5.根据权利要求1或2所述的自动分析装置,其特征在于,
在调整清洗液量时,所述控制部进行如下控制:在即使清洗液量达到了预定的上限值所述清洗液检测单元也未检测到所述清洗液的情况下,或者在清洗液量达到预定的下限值之前所述清洗液检测单元检测到所述清洗液的情况下,发出警报。
6.一种自动分析装置,其特征在于,具备:
分注机构,其包括将试样或试剂分注到反应容器的分注探头;
清洗喷嘴,其向所述分注探头排出清洗液;以及
控制部,其控制所述分注机构,
所述控制部在确认所述清洗液的液量时,与所述分注探头的清洗时相比,使所述分注探头的水平位置相对于所述清洗喷嘴位于下游侧。
7.根据权利要求6所述的自动分析装置,其特征在于,
所述分注机构具备清洗液检测单元,
所述控制部在确认所述清洗液的液量时,使所述分注探头逐渐下降,基于所述清洗液检测单元检测到所述清洗液时的高度,确认所述清洗液的液量。
8.根据权利要求7所述的自动分析装置,其特征在于,
所述控制部使确认所述清洗液的液量时所述分注探头下降的速度比清洗所述分注探头时所述分注探头下降的速度慢。
9.根据权利要求7所述的自动分析装置,其特征在于,
所述控制部在确认所述清洗液的液量时,在开始从所述清洗喷嘴排出所述清洗液之后,使所述分注探头开始下降。
10.根据权利要求7所述的自动分析装置,其特征在于,
所述自动分析装置具备能够调整所述清洗液的液量的比例阀,
所述控制部基于所述清洗液检测单元检测到所述清洗液时的高度,变更所述比例阀的开闭状态。
11.根据权利要求7所述的自动分析装置,其特征在于,
所述控制部使确认所述清洗液的液量时从所述清洗喷嘴排出的所述清洗液的流速比清洗所述分注探头时从所述清洗喷嘴排出的所述清洗液的流速慢。
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