[发明专利]用于过滤图像的方法和相关联的量测设备在审
| 申请号: | 202080065378.3 | 申请日: | 2020-09-03 |
| 公开(公告)号: | CN114667446A | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
| 发明(设计)人: | A·E·A·科伦;J·克鲁泽;N·梅塔;帕特里克·华纳;V·T·滕纳;P·A·J·廷尼曼斯;H·克拉莫 | 申请(专利权)人: | ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G01N21/956;G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王益 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 过滤 图像 方法 相关 设备 | ||
1.一种用于在衬底的包括目标结构的至少一部分的区域上进行量测测量的方法,所述方法包括
-接收表示由所述区域所散射的辐射的至少一部分的辐射信息,
-在傅里叶域中使用滤波器以用于移除或抑制所接收的辐射信息的、与已由所述目标结构散射的辐射不相关的至少一部分,以用于获得用于所述量测测量的经滤波的辐射信息,
其中,所述滤波器的特性基于与所述目标结构相关的目标信息。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述目标信息包括目标结构尺寸(A)和相位梯度斜率(kx,y)中的至少一个。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述滤波器的特性包括:所述滤波器在傅里叶域中的中心频率(NAx,y)和所述滤波器在傅里叶域中的宽度(NAw)中的至少一种。
4.根据权利要求2和3中任一项所述的方法,其中所述滤波器的所述宽度与所述目标结构尺寸成反比且由以下表达式给出:
NNAw∝λ/A
其中λ是所述辐射的波长。
5.根据引用权利要求2和3的情况下的任一前述权利要求所述的方法,其中所述滤波器在所述傅里叶域中的中心频率基于相位梯度斜率,其中
其中λ是所述辐射的波长。
6.根据任一前述权利要求所述的方法,其中所述方法包括通过相位获取方法从所接收的辐射信息获得复合电场,可选地所述相位获取方法是直接相位获取测量或间接相位获取测量,可选地所述间接相位获取测量使用相位获取算法。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述方法包括对所述复合场进行傅里叶变换的动作。
8.根据任一前述权利要求所述的方法,其中所述方法包括获得包括所述目标信息的相位信号。
9.根据权利要求2和权利要求8中任一项所述的方法,其中从所述相位信号获得的所述目标信息包括所述目标结构尺寸和所述相位梯度斜率。
10.根据任一前述权利要求所述的方法,其中所述目标信息包括所述目标结构的间距。
11.根据任一前述权利要求所述的方法,其中滤波器的传输函数使得其在中部为平坦的且在其边缘处平缓地滚降。
12.根据任一前述权利要求所述的方法,所述方法还包括:
-在所述傅里叶域中使用一个或更多个滤波器以用于分离在由所述区域所散射的辐射的所述至少一部分内的至少一对相反的较高衍射阶。
13.根据任一前述权利要求所述的方法,包括执行关注的光瞳区优化步骤以优化在所述傅里叶域内的、使用所述滤波器进行所述移除或抑制的区。
14.一种用于在衬底的包括目标结构的至少一部分的区域上进行量测测量的方法,所述方法包括:
-接收表示由所述区域散射的辐射的至少一部分的辐射信息,
-在傅里叶域中使用一个或更多个滤波器以用于分离在由所述区域散射的辐射的所述至少一部分内的至少一对相反的较高衍射阶。
15.一种用于在衬底的包括目标结构的至少一部分的区域上进行量测测量的量测设备,所述量测设备被配置成用于:
-接收表示由所述区域散射的辐射的至少一部分的辐射信息,
-在傅里叶域中使用滤波器以用于移除或抑制所接收的辐射信息的、与已由所述目标结构散射的辐射不相关的至少一部分,以用于获得用于所述量测测量的经滤波的辐射信息,
其中,所述滤波器的特性基于与所述目标结构相关的目标信息。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司,未经ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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