[发明专利]分散体在审
| 申请号: | 202080059548.7 | 申请日: | 2020-07-08 |
| 公开(公告)号: | CN114302860A | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
| 发明(设计)人: | W·韦弗;L·奇科莎;J·普夫劳默;A·卡里米;R·韦德尔 | 申请(专利权)人: | 应用石墨烯材料英国有限公司 |
| 主分类号: | C01B32/194 | 分类号: | C01B32/194;C09D7/61 |
| 代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 黄琳娟 |
| 地址: | 英国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 散体 | ||
1.在水或水溶液中形成2D材料/石墨纳米微片的液体分散体的方法,包括以下步骤:
(1)产生分散介质;
(2)将2D材料/石墨纳米微片混合到分散介质中;和
(3)使用机械装置使所述2D材料/石墨纳微米片经受足够的剪切力和/或破碎力,以减小2D材料/石墨纳米微片的粒径,
其特征在于,所述液体分散体包含所述2D材料/石墨纳米微片、至少一种研磨介质、水和至少一种润湿剂,并且所述至少一种研磨介质是水溶性的或者官能化为水溶性的。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述2D材料/石墨纳米微片包含石墨烯纳米微片、石墨纳米微片和2D材料纳米微片中的一种或多种,并且其中
所述石墨烯纳米微片包含石墨烯纳米片、还原的氧化石墨烯纳米片、双层石墨烯纳米片、双层还原的氧化石墨烯纳米片、三层石墨烯纳米片、三层还原的氧化石墨烯纳米片、少层石墨烯纳米片、少层还原的氧化石墨烯纳米片、和6至10层碳原子的石墨烯纳米片中的一种或多种,并且所述石墨纳米微片包含具有至少10层碳原子的石墨纳米片,所述石墨纳米微片包含具有10至20层碳原子的石墨纳米片、具有10至14层碳原子的石墨纳米片、具有10至35层碳原子的石墨纳米片、具有10至40层碳原子的石墨纳米片、具有25至30层碳原子的石墨纳米片、具有25至35层碳原子的石墨纳米片、具有20至35层碳原子的石墨纳米片或具有20至40层碳原子的石墨纳米片,并且所述2D材料微片包含六方氮化硼(hBN)、二硫化钼(MoS2)、二硒钨(WSe2)、硅烯(Si)、锗烯(Ge)、石墨炔(C)、硼墨烯(B)、磷烯(P)或上述两种或更多种材料的2D面内或垂直异质结构中的一种或多种。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述2D材料/石墨纳米微片包括至少一种1D材料。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中所述至少一种研磨介质包括研磨树脂、用强锚定基团改性的聚合物、具有至少一个胺基的改性醛树脂的水溶液或低分子量苯乙烯/马来酸酐共聚物。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中所述至少一种润湿剂包括以下项中的一种:聚合物润湿剂、离子润湿剂、聚合物非离子分散和润湿剂、阳离子润湿剂、两性润湿剂、双子座润湿剂、高分子树脂状润湿和分散剂或两种或更多种这些润湿剂的混合物。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中所述分散介质包含至少一种研磨介质和水,并且产生所述分散介质的步骤包括:
(i)将所述至少一种研磨介质与水混合,直到其基本均匀。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述方法还包括以下步骤:
(ii)在步骤(i)完成后,将所述2D材料/石墨纳米微片加入到所述至少一种研磨介质和水的混合物中,和
(iii)机械混合所述2D材料/石墨纳米微片以及所述至少一种研磨介质和水的混合物,直到所述2D材料/石墨纳米微片基本分散在研磨介质溶液中。
8.根据权利要求6或7所述的方法,其中所述分散介质还包含以液体形式储存的至少一种润湿剂,并且产生所述分散介质的步骤包括:
(i)混合所述至少一种研磨介质、水和润湿剂,直到所述研磨介质、水和润湿剂的混合物基本均匀。
9.根据权利要求6或7所述的方法,其中所述分散介质还包含至少一种润湿剂,所述润湿剂以固体形式储存,并且产生所述分散介质的步骤包括:
(i)混合所述至少一种研磨介质、水和润湿剂,直到所述润湿剂溶解,并且所述研磨介质、水和润湿剂的混合物基本均匀。
10.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其中所述至少一种润湿剂基本与2D材料/石墨微片同时加入到分散介质中。
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