[发明专利]弹性波器件

权利要求书

1.一种弹性波器件，其特征在于，

具有：

压电基板；

电极，其以与所述压电基板接触的方式设置；以及

声多层膜，其以与所述压电基板和/或所述电极接触的方式设置，

且构成为利用体波的谐振特性中的高次模。

2.根据权利要求1所述的弹性波器件，其特征在于，

所述声多层膜交替地层叠有低声阻抗膜和高声阻抗膜。

3.根据权利要求1所述的弹性波器件，其特征在于，

在所述声多层膜中，低声阻抗膜和高声阻抗膜交替地连续，层叠为3层以上且20层以下。

4.根据权利要求2或3所述的弹性波器件，其特征在于，

在所述声多层膜的各低声阻抗膜及各高声阻抗膜中，至少3层的厚度是所述体波的0.016波长～0.11波长。

5.根据权利要求2至4的任一项所述的弹性波器件，其特征在于，

所述声多层膜具有1层以上的所述低声阻抗膜，并具有2层以上的所述高声阻抗膜，1层的所述低声阻抗膜的厚度或者任意2层的各低声阻抗膜的平均厚度与任意2层的各高声阻抗膜的平均厚度的和是所述体波的0.07～0.15波长。

6.根据权利要求2至5的任一项所述的弹性波器件，其特征在于，

所述声多层膜的各低声阻抗膜和/或各高声阻抗膜由包含Mg合金、SiO₂、Al、Si、Ge、Ti、ZnO、Si_xN_y、SiO_xF_y(在此，x及y是正的实数)、AlN、SiC、Al₂O₃、Ag、Hf、TiO₂、Ni、Au、Ta、Mo、Pt、W、以及Cu中的至少其一的膜、或者包含它们中的至少其一的氧化膜、氮化膜、碳化膜或者碘化膜构成。

7.根据权利要求1至6的任一项所述的弹性波器件，其特征在于，

所述压电基板由LiNbO₃、LiTaO₃、Li₂B₄O₇、或者硅酸镓镧的单晶构成。

8.根据权利要求1至6的任一项所述的弹性波器件，其特征在于，

所述压电基板由LiNbO₃晶体构成，欧拉角是(0°±5°、66.5°～82°、0°～180°)以及(90°±5°、90°±5°、0°～180°)的任意一方、或者与它们的任意一方在晶体学上等价的欧拉角，

且构成为利用所述压电基板的厚度剪切振动。

9.根据权利要求1至6的任一项所述的弹性波器件，其特征在于，

所述压电基板由LiNbO₃晶体构成，欧拉角是(0°±5°、119°～133°、0°～180°)、或者与它们在晶体学上等价的欧拉角，

且构成为利用所述压电基板的厚度纵向振动。

10.根据权利要求1至6的任一项所述的弹性波器件，其特征在于，

所述压电基板由LiNbO₃晶体构成，且为条带型，欧拉角是(0°±5°、－123°～－80°、0°～180°)、或者与它们在晶体学上等价的欧拉角，

且构成为利用所述压电基板的厚度剪切振动。

11.根据权利要求1至6的任一项所述的弹性波器件，其特征在于，

所述压电基板由LiTaO₃晶体构成，欧拉角是(0°±5°、56°～96°、0°～180°)以及(90°±5°、90°±5°、0°～180°)的任意一方，或者与它们的任意一方在晶体学上等价的欧拉角，

且构成为利用所述压电基板的厚度剪切振动。