[发明专利]吸光分析装置

权利要求书

1.一种吸光分析装置，包括：

基板，其上部形成有可容纳试样的第一表面；

转动板，其形成有与所述第一表面对应且相距预定距离的第二表面；

检测光照射装置，其由所述第一表面和第一光导管连接，以使检测光能够对所述第一表面与所述第二表面之间的光路上容纳的所述试样进行照射；

分光装置，其由所述第二表面和第二光导管连接，通过分析透过容纳于所述光路中的所述试样的特性光谱，分析所述试样的光谱学特性；以及

状态判断装置，其形成在所述光路的周边，用于判断容纳在所述第一表面与所述第二表面之间的试样是否以能够进行光谱学特性分析的状态容纳。

2.如权利要求1所述的吸光分析装置，其中，在所述光路中，所述试样因所述第一表面与所述第二表面的表面张力形成水柱状。

3.如权利要求1所述的吸光分析装置，其中，所述第一表面沿着所述第二表面的形成方向可前后移动地形成。

4.如权利要求1所述的吸光分析装置，其中，所述状态判断装置包括：

透光装置，其向所述光路照射透过光，用以判断所述第一表面与所述第二表面之间的试样状态；以及

受光装置，其接收通过所述光路的所述透过光的至少一部分。

5.如权利要求4所述的吸光分析装置，其中，所述透光装置与所述受光装置在垂直于所述第一表面与所述第二表面之间形成的所述光路的方向上相互面对地形成，且沿着所述光路的长度方向可移动地形成。

6.如权利要求4所述的吸光分析装置，其中，包括：

控制部，其向所述检测光照射装置、所述分光装置、所述透光装置和所述受光装置输入控制信号并生成分析数据；以及

显示部，其用于显示所述分析数据。

7.如权利要求6所述的吸光分析装置，其中，所述控制部包括判断部，其通过判断所述受光装置接收的所述透过光光量的损失程度来判断所述试样在所述第一表面与所述第二表面是否形成水柱。

8.如权利要求7所述的吸光分析装置，其中，当所述判断部判定所述试样在所述第一表面与所述第二表面形成可分析的水柱时，所述控制部通过控制使所述检测光照射装置照射检测光并进行分析，当所述判断部判定所述试样在所述第一表面与所述第二表面未形成可分析的水柱时，所述控制部通过控制使所述显示部告知所述试样的状态。

9.如权利要求6所述的吸光分析装置，其中，所述控制部包括照射光选择部，其通过控制选择并照射所述检测光照射装置所照射的所述检测光及所述透光装置所照射的所述透过光中任意一个。