[发明专利]用于样品分析的装置和方法

权利要求书

1.一种数字微流控和分析物检测装置，包括：

第一基材和第二基材，所述第一基材和所述第二基材在侧视图中彼此大体平行地对齐且其间限定有缝隙；

所述第一基材和所述第二基材中的至少一个具有电极阵列，所述电极阵列被配置为产生电致动力以沿所述第一基材和所述第二基材中的所述至少一个在缝隙内推动至少一个液滴，所述电极阵列具有在平面图中限定电极阵列区域的多个电极；以及

所述第一基材和所述第二基材中的至少一个具有在平面图中限定井阵列区域的井阵列，所述井阵列区域被限定在所述电极阵列区域内并且与所述多个电极中的每一个的至少一部分重叠，其中所述井阵列区域在平面图中与所述电极阵列区域的小于75%重叠。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述多个电极中的每一个与所述井阵列区域的小于25％重叠。

3.根据权利要求1所述的装置，其中所述电极阵列包括：

在平面图中具有第一电极区域的第一电极，以及

与所述第一电极相邻并且在平面图中具有第二电极区域的第二电极，

所述第一电极区域和所述第二电极区域在平面图中一起限定具有穿过其中的纵轴的基本平行四边形形状。

4.根据权利要求3所述的装置，其中所述井阵列区域具有在对角之间穿过其中的对角轴的基本矩形形状，所述井阵列区域的所述对角轴与所述第一电极区域和所述第二电极区域的所述纵轴基本平行或共线。

5.根据权利要求3所述的装置，其中所述井阵列区域的第一部分与所述第一电极区域重叠，并且所述井阵列区域的第二部分与所述第二电极区域重叠，所述第一部分具有与所述第二部分基本相等的尺寸。

6.根据权利要求3所述的装置，所述电极阵列进一步包括在平面图中具有第三电极区域的第三电极和在平面图中具有第四电极区域的第四电极，其中所述第一电极、所述第二电极、所述第三电极和所述第四电极串联限定路径，所述液滴沿所述路径与所述井阵列接合。

7.根据权利要求6所述的装置，其中所述第一电极、所述第二电极、所述第三电极和所述第四电极一起限定具有穿过其中的对角轴的基本正方形形状，所述对角轴相对于由所述井阵列限定的对角轴成约45度角设置。

8.根据权利要求6所述的装置，其中所述井阵列区域与所述第一电极区域、所述第二电极区域、所述第三电极区域和所述第四电极区域中的每一个的尺寸基本相似的部分重叠。

9.根据权利要求6所述的装置，其中所述电极阵列被配置为沿所述路径推动所述至少一个液滴，所述至少一个液滴的至少一部分与所述井阵列的至少一个井进行流体接触。

10.根据权利要求6所述的装置，其中所述电极阵列被配置为围绕所述井阵列的外围部分连续地推动所述至少一个液滴。

11.根据权利要求3所述的装置，其中所述电极阵列被配置为将所述至少一个液滴沿路径从所述第一电极推至所述第二电极，并且其中所述井阵列的外围边缘的至少一部分相对于所述路径成0度至55度角。

12.根据权利要求1所述的装置，其中所述井阵列包括多个飞升井，每个飞升井被配置为容纳单个珠粒。

13.根据权利要求1所述的装置，进一步包括靠近所述多个井的磁体和电磁体中的至少一种。

14.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一基材或所述第二基材中的至少一个包含PET、PMMA、COP、COC、PC和玻璃中的至少一种。

15.根据权利要求1所述的装置，其中所述电极阵列和所述井阵列均限定在所述第一基材或所述第二基材中的一个中。