[发明专利]用于高机械强度薄玻璃基板的边缘精整的方法和设备

权利要求书

1.一种具有抛光边缘的基板，所述基板包括：

至少700MPa的机械边缘强度；以及

大小不超过2微米的边缘缺陷。

2.如权利要求1所述的基板，其中所述抛光边缘包括以基本上平行的配置布置在所述抛光边缘上的多个刷痕，所述刷痕通过刷抛光工艺施加。

3.如权利要求2所述的基板，其中所述刷痕平行于所述抛光边缘的纵向轴线进行布置。

4.如权利要求1至3中任一项所述的基板，其中所述基板包括在约0.01mm与约6.0mm之间的厚度。

5.如权利要求1至4中任一项所述的基板，其中所述基板包括至少1GPa的机械边缘强度。

6.如权利要求1至5中任一项所述的基板，其中所述基板包括斜切或圆角边缘轮廓。

7.如权利要求1至5中任一项所述的基板，其中所述基板包括正方形、外圆角或斜切边缘轮廓。

8.如权利要求1至7中任一项所述的基板，其中所述基板包括对称边缘轮廓。

9.如权利要求1至7中任一项所述的基板，其中所述基板包括非对称边缘轮廓。

10.如权利要求8所述的基板，其中所述非对称边缘轮廓包括斜切表面和圆角表面。

11.如权利要求9所述的基板，其中所述边缘轮廓包括斜切表面和圆角表面。

12.如前述权利要求中任一项所述的基板，其中所述抛光边缘具有从所述抛光边缘侧向地延伸的多个成形突起。

13.如权利要求10所述的基板，其中每个突起具有第一渐缩侧壁和第二渐缩侧壁。

14.如前述权利要求中任一项所述的基板，其中所述基板包括在约1nm与约10nm之间的边缘平均粗糙度。

15.如前述权利要求中任一项所述的基板，其中所述基板包括在约2nm与约20nm之间的边缘均方根粗糙度。

16.如前述权利要求中任一项所述的基板，其中所述基板包括在约5nm与约500nm之间的边缘粗糙度峰-谷测量值。

17.如前述权利要求中任一项所述的基板，其中所述基板包括强化玻璃、未强化玻璃、钢层压件、陶瓷基板或硅基板。

18.如前述权利要求中任一项所述的基板，其中所述基板包括布置在所述基板的表面上的电子元件层。

19.如前述权利要求中任一项所述的基板，其中所述基板包括布置在所述基板的表面上的油墨层。

20.如权利要求19所述的基板，其中所述油墨层的边缘被刷抛光。

21.如前述权利要求中任一项所述的基板，其中所述基板是包括化学强化玻璃或玻璃层压件的强化玻璃。

22.一种同时地形成并精整基板的边缘表面的方法，所述方法包括：

在第一中介体与第二中介体之间布置近净成形基板；

将压缩力施加到所述基板和所述中介体；以及

使用刷同时地使所述基板的边缘表面成形并将其抛光；

其中每个中介体装置包括被配置为导引所述刷以实现所述基板的所期望的边缘轮廓形状的大小和边缘轮廓。