[发明专利]等离子处理

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，包括：

·限定空隙的外壳；

·与所述空隙连通的电离气体等离子体源；和

·布置为搅拌所述空隙的内容物的搅拌装置。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述搅拌装置包括所述外壳的一部分，所述外壳包括壁，所述壁包括至少一个旋转壁。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的装置，其中所述电离气体等离子体源在所述空隙内。

4.根据从属于权利要求2的权利要求3所述的装置，其中每个旋转壁被布置为围绕所述源旋转。

5.根据权利要求4所述的装置，包括布置为使每个旋转壁围绕所述源旋转的驱动装置。

6.根据权利要求4或权利要求5所述的装置，其中所述壁包括至少一个固定壁，所述至少一个固定壁相对于所述源固定。

7.根据权利要求6所述的装置，其设有电源导管，所述电源导管用于从所述空隙外部向所述源传输电力，并且包括穿过固定壁的电插头。

8.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其包括用于所述源的并且与所述源电连通的电源。

9.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其中所述搅拌装置包括至少一个挡板，所述至少一个挡板被设为在所述空隙内移动，通常是旋转移动。

10.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其设有气体导管，气体可通过所述气体导管被引入到所述空隙中，并且所述装置可选地设有排气导管，所述气体可通过所述排气导管从所述空隙中排出。

11.根据权利要求10所述的装置，其设有可见光或紫外线辐射源，所述可见光或紫外线辐射源设为在所述空隙内提供可见光或紫外线辐射。

12.根据权利要求1或权利要求2、或不从属于权利要求3的权利要求8至11中任一项所述的装置，其中所述源位于所述空隙外部，并且设有用于所述电离气体等离子体或由所述电离气体等离子体产生的活性物质从所述源到所述空隙的导管。

13.根据前述权利要求中任一项所述的装置，包括与所述空隙连通的水源。

14.根据权利要求13所述的装置，其中所述水源是等离子体活化水源。

15.一种处理材料的方法，包括以下步骤：将所述材料放置在根据前述权利要求中任一项所述的装置的所述空隙中，然后使所述电离气体等离子体源产生电离气体等离子体的同时还使所述搅拌装置搅拌所述材料。

16.根据权利要求15所述的方法，其中所述电离气体等离子体产生在所述空隙中累积的活性物质。

17.根据权利要求15或权利要求16所述的方法，其中所述材料包括种子、颗粒材料、塑料珠、生物质、废水、牛奶、水或被污染物污染的其他材料。

18.根据权利要求15至17中任一项所述的方法，其中所述材料包括种子，并且所述方法导致所述种子的消毒和/或清洁。

19.根据权利要求15至18中任一项所述的方法，其中所述材料包括种子，并且所述方法导致所述种子的发芽的促进。

20.根据从属于权利要求18的权利要求19所述的方法，其中所述种子的消毒和/或清洁以及所述种子的发芽的促进发生在所述种子尚未从所述空隙中移出的同一时期。