[发明专利]处理废物的方法及设备

权利要求书

1.用于处理废物的设备，包括外壳(101)和研磨单元(1b)，所述研磨单元(1b)中限定有研磨室(1)，所述研磨室(1)具有用于引入待处理废物的至少一个入口(102)，以及用于排出经废物处理后得到的物料的至少一个出口(103)，所述入口和所述出口(102，103)与相应的闭合元件(1a，104)相关联，以用于将所述研磨室(1)与外部环境隔离，其特征在于：所述外壳(101)内限定有用于容纳所述单元(1b)并整体包围所述单元(1b)的空间(105)，且所述空间(105)可通过至少一扇门(110，111)进入。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：所述外壳(101)包括支撑框架(106)以及多个面板(107)，所述多个面板(107)附接到所述框架(106)上并限定了内部容纳有所述研磨单元(1b)的所述空间(105)的壁，其中，所述面板(107)中的至少一个包括一可打开的门(110，111)。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于：所述外壳(101)的内部限定有用于从所述研磨单元(1b)排出的物料的收集室(108)，所述收集室(108)通过导管(109)与限定在所述单元(1b)内的研磨室(1)相连通。

4.根据权利要求1或2或3所述的设备，其特征在于：所述研磨室(1)内部容纳有转子(2)，所述转子(2)上设置有至少一个径向叶片(35a，35b)，且在其相对于转动轴线(S)远离的端部(37a，37b)处设置有锤状部(39)，所述锤状部(39)上设置有两个相对的撞击表面(41，43)，所述撞击表面在所述转子分别沿顺时针或逆时针转动时工作，所述撞击表面中的第一个(41)为平坦的，且垂直于所述叶片的转动角方向，而另一撞击表面(43)具有不同的倾斜度。

5.根据前述权利要求中任意一项所述的设备，其特征在于：所述研磨室(1b)配备有至少三个温度传感器(20)，所述至少三个温度传感器(20)沿单元(1b)的室(1)的相应母线彼此以大约120°的角度间隔设置于不同高度即相对于所述单元(1b)的底部(1c)的不同高度处的所述单元壁的相应径向孔内，所述传感器(20)适于产生指示测量的所述单元内部的温度的相应信号。

6.处理废物的方法，其包括以下步骤：

提供如权利要求1-5中任意一项所述的设备；

打开用于关闭所述单元的入口(102)的闭合元件(1a)；

打开门(110)，以进入内部容纳有所述单元(1b)的空间(105)；

向单元(1b)内装入一定量的废物；

通过相应的闭合元件(1a)关闭所述单元(1b)的入口(102)；

关闭所述门(110)以将容纳有所述单元(1b)的空间(105)与外部环境隔离开；

启动研磨步骤。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于：在处理所述废物的过程中产生的离开所述单元(1b)的管道流出物由垂直延伸的多段分离单元(4)处理，该单元包括适于去除较大颗粒的第一旋风分离器段(4a)。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其特征在于：所述研磨步骤包括：

第一步骤，其中，所述转子(2)在顺时针或逆时针的第一方向转动，以便于以与转子(2)相关联的叶片(35a，35b)的第一楔形撞击表面(43)进行操作；

第二步骤，其中，所述转子(2)沿相反的第二方向转动，以便于以与转子(2)相关联的叶片(35a，35b)第二敲击撞击表面(41)进行操作。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于：在沿所述第一方向转动的步骤中，所述转子(2)以恒定的速度被驱动，以及，在沿所述相反的第二方向转动的所述第二步骤中，所述转子(2)以恒定的转矩被驱动。

10.根据权利要求6-10中任意一项所述的方法，其特征在于：设置有在所述外壳(101)内产生穿过所述空间(105)并擦过所述单元(1b)的侧壁的向上气流的步骤。