[发明专利]从数据集提取特征

权利要求书

1.一种从与半导体制造过程相关联的数据集提取特征的方法，所述方法包括：

基于所述数据集内所包括的残差图案的可视化从所述数据集迭代地提取特征，其中所述特征不同于在先前迭代中提取的先前特征，并且所述残差图案的所述可视化使用所述先前特征。

2.根据权利要求1所述的方法，其中提取所述特征包括：从被提供以所述相应可视化的用户接收用户输入。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，还包括通过以下操作修改所述数据集：

可视化所述数据集以提供清理可视化；以及

基于所述清理可视化从所述数据集去除特征。

4.根据权利要求3所述的方法，其中去除所述特征的所述步骤包括：基于查看所述清理可视化来接收用户输入。

5.根据权利要求4所述的方法，其中基于所述清理可视化去除所述特征包括：更新所述数据集的图形表示上的节点和边缘。

6.根据前述权利要求任一项所述的方法，还包括：使用所述先前特征执行特征选择，以排除在提供所述可视化时使用所述特征。

7.根据前述权利要求任一项所述的方法，其中所述迭代被重复，直到没有相关的残差图案被发现为止。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述数据集包括属性数据和目标数据。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述方法包括：使用统计测试确定是否存在相关的残差图案，以确定所述属性数据中的图案是否与目标数据相关。

10.根据权利要求8或权利要求9所述的方法，其中使用所述先前特征可视化所述数据集的所述步骤包括：示出所述属性数据的与所述目标数据相关的残差图案。

11.根据权利要求8至10中任一项所述的方法，其中所述属性数据包括与所述半导体制造过程相关的上下文数据，并且所述目标数据包括与所述半导体制造过程相关的性能数据。

12.根据前述权利要求任一项所述的方法，其中使用所述先前特征可视化所述数据集包括：基于所述先前特征，将集群约束添加到所述数据集。

13.根据前述权利要求任一项所述的方法，其中使用所述先前特征可视化所述数据集包括：定义以所述先前特征为条件的条件概率。

14.一种半导体制造方法，包括前述权利要求任一项所述的从数据集提取特征的所述方法，并且还包括使用所提取的特征来控制所述半导体制造过程。

15.一种包括计算机可读指令的计算机程序，当在合适的计算机设备上运行时，所述计算机可读指令引起所述计算机设备执行前述权利要求任一项的所述方法。