[发明专利]基于剂量率的放射治疗

权利要求书

1.一种放射治疗系统，包括：

射束系统，生成射束；

喷嘴，被耦合至所述射束系统并且将所述射束定向到靶体积；以及

控制系统，被耦合至所述射束系统和所述喷嘴，所述控制系统包括计算机系统，所述计算机系统包括处理器和被耦合至所述处理器的存储器；

其中所述存储器存储包括针对所述靶体积的剂量率-体积直方图的放射治疗计划，其中所述剂量率-体积直方图指示接收相应剂量率的所述靶体积的百分比；并且

其中所述射束系统和所述喷嘴由所述控制系统根据所述放射治疗计划控制。

2.根据权利要求1所述的放射治疗系统，其中所述靶体积包括多个子体积，其中所述放射治疗计划还包括针对所述子体积中的每个子体积的剂量率-体积直方图。

3.根据权利要求1所述的放射治疗系统，其中所述放射治疗计划还包括所述靶体积的照射次数、所述照射中的每次照射的持续时间、以及在所述照射中的每次照射中沉积的剂量。

4.根据权利要求3所述的放射治疗系统，其中所述放射治疗计划还包括所述照射被施加的时间段以及每个照射周期之间的时间间隔。

5.根据权利要求1所述的放射治疗系统，其中所述放射治疗计划还包括所述射束相对于所述靶体积的方向以及针对所述射束的射束能量。

6.根据权利要求1所述的放射治疗系统，其中所述射束包括选自以下各项构成的组中的射束类型：质子；电子；光子；原子核；以及离子。

7.根据权利要求1所述的放射治疗系统，其中所述放射治疗计划还包括基于所述剂量率-体积直方图的剂量率相对于所述靶体积的等值线。

8.根据权利要求1所述的放射治疗系统，其中所述放射治疗计划还包括针对所述靶体积的照射时间-体积直方图，其中所述照射时间-体积直方图指示在相应时间长度内被照射的所述靶体积的百分比。

9.一种使用放射治疗系统的方法，所述方法包括：

利用射束系统生成射束；

利用被耦合至所述射束系统的喷嘴将所述射束定向到靶体积处；以及

利用包括计算机系统的控制系统控制所述射束，所述计算机系统包括处理器和被耦合至所述处理器的存储器，其中所述控制根据被存储在所述存储器中的放射治疗计划进行，其中所述放射治疗计划包括针对所述靶体积的剂量率-体积直方图，并且其中所述剂量率-体积直方图指示接收相应剂量率的所述靶体积的百分比。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述靶体积包括多个子体积，其中所述放射治疗计划还包括针对所述子体积中的每个子体积的剂量率-体积直方图。

11.根据权利要求9所述的方法，其中所述放射治疗计划还包括所述靶体积的照射次数、所述照射中的每次照射的持续时间和在所述照射中的每次照射中沉积的剂量、所述照射被施加的时间段、每个照射周期之间的时间间隔、所述射束相对于所述靶体积的方向、以及针对所述射束的射束能量。

12.根据权利要求9所述的方法，其中所述射束包括选自以下各项构成的组中的射束类型：质子；电子；光子；原子核；以及离子。

13.根据权利要求9所述的方法，其中所述放射治疗计划还包括基于所述剂量率-体积直方图的剂量率相对于所述靶体积的等值线。

14.根据权利要求9所述的方法，其中所述放射治疗计划还包括针对所述靶体积的照射时间-体积直方图，其中所述照射时间-体积直方图指示在相应时间长度内被照射的所述靶体积的百分比。