[发明专利]确定玻璃基板和涂敷机之间距离的装置和方法

说明书

一种化学气相沉积(CVD)涂敷机和至少一个电容式接近传感器的组合体，包括：CVD涂敷机，和至少一个电容式接近传感器，其附接到所述CVD涂敷机，其中所述至少一个电容式接近传感器被布置成确定玻璃基板与所述CVD涂敷机之间的距离。

技术领域

本发明涉及一种用于确定玻璃基板和涂敷机之间距离的设备和方法。更具体地说，本发明涉及通过化学气相沉积(CVD)对玻璃基板进行涂覆，尤其涉及相对于在其上将形成涂层的玻璃基板的位置感测涂敷机的位置。希望提供一种快速且可重复的设置涂敷机高度的方法，以确保涂覆的再现性。此外，防止涂敷机下降到玻璃基板(例如浮法玻璃制造工艺中的玻璃带)，从而导致基板破裂和损坏涂敷机的方案将是有利的。这种方案还可以有利地提供警告信号，以警告操作者涂敷机接近玻璃基板。

背景技术

US 5298073中描述了一种确定玻璃带和涂敷机之间间距的已知方法，其涉及使用差压。位置传感器在沿涂敷机的选定位置处固定到涂敷机。传感器包括环形出口和中心开口，相容气体通过该环形出口从紧邻玻璃表面的位置排出到玻璃表面上，该中心开口用于测量由气体冲击玻璃表面而产生的背压。背压是环形出口与玻璃表面的距离的函数，并且环形通道的尺寸和通过其中的气体流率使得对于涂敷机将工作的距离范围产生平滑的明确限定的压力-距离曲线。观察到的压力与已知距离处的压力的比较指示传感器到玻璃的距离，并且因此指示涂敷机到玻璃的距离。

然而，存在与差压方案相关的缺点。例如，该技术需要复杂的管道布置，并且可能存在关于校准和对气体压力变化的灵敏度的问题。

发明内容

因此，提供一种至少减轻并优选地解决上述问题的方法将是有利的。

根据本发明的第一方面，提供了一种化学气相沉积(CVD)涂敷机和至少一个电容式接近传感器的组合体，包括：

CVD涂敷机，和

至少一个电容式接近传感器，其附接到所述CVD涂敷机，

其中所述至少一个电容式接近传感器被布置成确定玻璃基板与所述CVD涂敷机之间的距离。

出人意料地发现，第一方面的组合体提供了一种确定玻璃基板和CVD涂敷机之间距离的方便和精确的方法。这种组合体使得能够实时监测涂敷机的高度，而没有已知方法的特征缺点。

在本发明的以下讨论中，除非相反地说明，否则参数的允许范围的上限或下限的替代值的公开，连同所述值中的一个比另一个更高度优选的指示，应被解释为暗含的陈述，即，位于所述替代方案的更优选和不太优选之间的所述参数的每个中间值本身优选于所述不太优选的值，并且还优选于位于所述不太优选的值和所述中间值之间的每个值。

在整个说明书中，术语“包含”或“含有”是指包括指定的组分，但不排除存在其它组分。术语“基本上由……组成”或“基本上由……构成”是指包括指定的组分但排除除了作为杂质存在的材料、作为用于提供组分的方法的结果而存在的不可避免的材料和为了实现本发明的技术效果以外的目的而添加的组分之外的其它组分。通常，当提及组合物时，基本上由一组组分组成的组合物将包含小于5％重量，通常小于3％重量，更通常小于1％重量的未指定组分。

术语“由……组成”或“由……构成”是指包括指定的组分但排除其它组分。

在任何适当的时候，取决于上下文，术语“包含”或“含有”的使用也可以包括“基本上由……组成”或“基本上由……构成”的含义，并且也可以包括“由……组成”或“由……构成”的含义。

本文中例如提及“在x至y的范围内”的意思是包括“从x至y”的解释，因此包括值x和y。