[发明专利]从含镍和钴的氢氧化物制造含镍和钴的溶液的制造方法

权利要求书

1.一种含钴和镍的溶液的制造方法，其特征在于，

所述制造方法由以下工序构成：

水洗工序，将粗镍氢氧化物和粗钴氢氧化物中的至少一者作为起始物质，将在所述起始物质中加入水进行搅拌、混合而形成的浆料过滤而得到沉淀物，所述浆料的浓度控制在130g/l～340g/l的范围内，将该沉淀物用水洗涤，从该沉淀物中排出作为杂质的镁、钙中的一种以上，得到水洗后粗氢氧化物，

所述粗镍氢氧化物包含的镍比钴多，所述粗镍氢氧化物含有：钴和镍；以及杂质，该杂质是作为所述钴和镍以外的元素的镁、钙、铁、硅、锰、锌、铜、铝、铬中的一种以上，

所述粗钴氢氧化物包含的钴比镍多，所述粗钴氢氧化物含有：钴和镍；以及杂质，该杂质是作为所述钴和镍以外的元素的镁、钙、铁、硅、锰、锌、铜、铝、铬中的一种以上；

浸出工序，用酸对所述水洗后粗氢氧化物进行浸出，得到含有作为杂质的锰、镁、铁、硅、钙、锌、铝、铜、铬中的一种以上以及钴和镍的浸出后液，所述浸出后液的pH控制在0.5～2.1的范围内；

中和工序，在所述浸出后液中添加pH调节剂进行中和处理后，进行固液分离处理，去除含有作为杂质的铁、硅、铝、铬中的一种以上的中和后残渣，得到中和后液，所述中和后液的pH控制在4.6～5.0的范围内；以及

萃取工序，对得到的中和后液进行基于萃取剂的溶剂萃取，萃取去除作为杂质的锰、镁、钙、锌、铜中的一种以上，得到同时含有钴和镍且减少了杂质的含有钴和镍的萃取后液，所述萃取后液的pH控制在2.0～2.4的范围内。

2.如权利要求1所述的含钴和镍的溶液的制造方法，其中，

在所述浸出工序中添加还原剂，浸出液的氧化还原电位控制在715[mVvs.NHE]以下。

3.如权利要求1所述的含钴和镍的溶液的制造方法，其中，

所述萃取工序中的萃取剂是含有烷基磷酸酯的有机溶剂。

4.如权利要求1所述的含钴和镍的溶液的制造方法，其中，

包括：

洗涤工序，将所述萃取工序中得到的萃取后有机相所含的一部分的镍和钴反萃取至水相，将作为杂质的锰、镁、钙、锌及铜中的一种以上去除至作为有机相的洗涤后有机相中，得到减少了所述杂质且含有镍和钴的作为所述水相的洗涤后液；以及

反萃取工序，对所述洗涤后有机相进一步进行反萃取，将作为杂质的锰、镁、钙、锌及铜反萃取至水相，将所述杂质去除至作为所述水相的反萃取后液中，得到减少了所述杂质的反萃取后有机相，

将所述洗涤后液的一部分用作所述浸出工序中的所述酸，

将所述反萃取后有机相的一部分再次用于所述萃取工序中的萃取剂。