[发明专利]石英蚀刻方法及蚀刻基板在审
| 申请号： | 202080006431.2 | 申请日： | 2020-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN113165960A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 小岛智明 | 申请（专利权）人： | 爱发科成膜株式会社 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;G03F1/60;G03F1/80 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 刁兴利;康泉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石英 蚀刻 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种石英蚀刻方法，其为如下方法：在石英玻璃基板上形成掩模，并使用氟酸系蚀刻溶液施加蚀刻，
准备石英玻璃基板，在所述石英玻璃基板上形成具有规定的图案的掩模，对所述石英玻璃基板施加蚀刻，
在准备所述石英玻璃基板时，按照所含有的OH基浓度为300ppm以下的标准来选择所述石英玻璃基板。
2.根据权利要求1所述的石英蚀刻方法，其中，
在准备所述石英玻璃基板时，按照双折射率为10nm/cm以下的标准来选择所述石英玻璃基板。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的石英蚀刻方法，其中，
在准备所述石英玻璃基板时，按照由通过VAD法制造的合成石英构成的标准来选择所述石英玻璃基板。
4.根据权利要求1～权利要求3中任一项所述的石英蚀刻方法，其中，
在准备所述石英玻璃基板时，按照无线痕的标准来选择所述石英玻璃基板。
5.根据权利要求1～权利要求4中任一项所述的石英蚀刻方法，其中，
在形成所述掩模时，所述掩模至少主成分为铬。
6.根据权利要求1～权利要求5中任一项所述的石英蚀刻方法，其中，
在对所述石英玻璃基板施加蚀刻时，将所述石英玻璃基板浸渍于所述氟酸系蚀刻溶液。
7.一种蚀刻基板，其通过权利要求1～权利要求6中任一项所述的石英蚀刻方法制造而成。
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