[发明专利]垂直腔面发射激光器

权利要求书

1.一种制造至少一个辐射发射器的方法，包括以下步骤：

在衬底的顶面上沉积蚀刻停止层；

在所述蚀刻停止层上沉积层堆叠；所述层堆叠包括第一接触层、第一反射器、有源区、第二反射器和第二接触层；

局部去除所述层堆叠和所述蚀刻停止层，从而形成至少一个台面，所述至少一个台面包括所述蚀刻停止层的未去除部分和层状柱，所述至少一个层状柱基于至少一个台面内未去除的层堆叠形成垂直腔面激光器结构；

在所述衬底的顶面上沉积保护材料，从而将整个台面嵌入所述保护材料中，其中所述衬底的背面保持不受保护；

通过施加至少一种蚀刻剂来去除所述衬底，所述至少一种蚀刻剂用于蚀刻所述衬底但不蚀刻所述蚀刻停止层和所述保护材料；以及

去除所述蚀刻停止层，从而暴露至少一个层状柱的第一接触层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：

在所述保护材料的顶部安装载体；

提供第二衬底；以及

将所述至少一个层状柱的基座安装在已经位于所述第二衬底上的至少一个电接触垫上；

其中所述局部去除所述层堆叠和所述蚀刻停止层的步骤还包括从所述衬底的顶面局部去除衬底材料，使得所述至少一个台面还包括所述衬底的未去除表面部分；

所述在所述衬底的顶面上沉积保护材料的步骤还包括将所述衬底的未去除表面部分嵌入所述保护材料中；

所述将所述基座安装在所述电接触垫上的步骤是在去除所述保护材料之前进行的；

通过机械地调节所述载体与所述第二衬底的相对位置，使所述基座与所述电接触垫对齐，然后再将所述基座安装在所述电接触垫上；

其中所述保护材料对于可见光是透明的；和

所述载体对于可见光是透明的。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述局部去除所述层堆叠和所述蚀刻停止层的步骤还包括从所述衬底的顶面局部去除衬底材料，使得所述至少一个台面还包括所述衬底的未去除表面部分；以及

所述在所述衬底的顶面上沉积所述保护材料的步骤还包括将所述衬底的未去除表面部分嵌入所述保护材料中。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述通过去除所述蚀刻停止层的步骤暴露出所述层状柱的第一接触层；以及

在暴露出的所述第一接触层上沉积金属层，所述金属层替换所述第一接触层以形成所述层状柱的基座。

5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：

提供第二衬底；以及

将所述至少一个层状柱的基座直接放置在所述第二衬底上，或放置在已经位于所述第二衬底上的至少一个电接触垫上，或放置在已经位于所述第二衬底上的另一装置上。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：

在安装所述至少一个层状柱之前或之后，在所述第二衬底上布置至少一个电驱动器；

其中，所述至少一个电驱动器配置为电驱动所述至少一个层状柱的垂直腔面激光器结构，并且连接至或承载所述至少一个电接触垫。

7.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，在将所述保护材料去除之前，将所述基座安装在所述电接触垫上；以及

通过机械地调节所述保护材料与所述第二衬底的相对位置，使所述基座与所述电接触垫对齐，然后将所述基座安装在所述电接触垫上。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：

在所述保护材料的顶部安装载体；以及

通过机械地调节所述载体与所述第二衬底的相对位置，使所述基座与所述电接触垫对齐。

9.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其特征在于，所述载体和所述保护材料对于可见光是透明的；和/或

所述至少一个层状柱本身形成至少一个辐射发射器。