[发明专利]用于控制流体流动的装置有效

专利信息
申请号: 202080003229.4 申请日: 2020-03-24
公开(公告)号: CN112262277B 公开(公告)日: 2023-08-15
发明(设计)人: M·柯林斯;C·肯尼 申请(专利权)人: OFIP有限公司
主分类号: F16K3/26 分类号: F16K3/26;F16K27/04;F16K31/122;F16K31/124;F16K37/00;F16K47/04;F16K1/12;F16K27/02;G05D16/10
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 相迎军;王小东
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 控制 流体 流动 装置
【权利要求书】:

1.一种用于控制流体流动的装置,其用于控制流体通过导管从所述装置的上游侧到所述装置的下游侧的流动,所述装置包括:

上游阀外壳,所述上游阀外壳在所述装置的所述上游侧上限定入口;

下游阀外壳,所述下游阀外壳在所述装置的所述下游侧上限定出口孔;

阀芯,所述阀芯固定在所述上游阀外壳与所述下游阀外壳之间,其中所述上游阀外壳、所述下游阀外壳和所述阀芯形成为离散部件;

其中所述阀芯包括限定控制容积的壳体;

阀构件,所述阀构件可移动地安装在所述壳体上并且定位于所述出口孔的上游侧上,其中所述阀构件被布置成往复移动以选择性地打开和关闭所述出口孔,由此控制所述流体通过所述出口孔的流动;

输入管线,所述输入管线限定在所述阀芯中,以将流体压力引入到所述控制容积中,其中所述控制容积中的所述流体压力作用于所述阀构件,以控制所述阀构件的位置;以及

磁体,所述磁体被安装在所述阀构件的中心轴上,使得所述磁体通过所述阀构件的移动在与所述阀构件相同的方向上移位,其中所述磁体被构造成并在所述阀构件的中心轴线上被安装成使得即使在所述阀构件相对于所述壳体旋转时所述磁体仍保留相同的周向和/或径向位置;以及

位置传感器,所述位置传感器被布置成确定所述阀构件的位置,其中所述位置传感器包括一个或多个多轴磁场传感器,

其中,所述阀芯包括从所述阀芯的外表面延伸的一个或多个腔体,所述一个或多个多轴磁场传感器位于所述一个或多个腔体中。

2.根据权利要求1所述的装置,其中所述入口、所述阀构件和所述出口孔绕轴线相对于彼此同轴布置,所述轴线在与流体流动通过所述出口孔的平均方向共线的方向上延伸。

3.根据权利要求1或2所述的装置,其中所述出口孔的尺寸小于所述阀构件的对应尺寸。

4.根据权利要求1或2所述的装置,其中所述阀构件包括活塞头,所述活塞头被布置成在所述控制容积内移动,其中所述控制容积中的所述流体压力被布置成作用于所述活塞头。

5.根据权利要求1或2所述的装置,其中所述阀构件包括封闭构件,所述封闭构件被布置成与所述下游阀外壳或所述下游阀外壳的可拆卸边缘接合以关闭所述出口孔。

6.根据权利要求5所述的装置,其中所述封闭构件包括在所述封闭构件的远端处的端面,其中所述封闭构件的所述端面包括在所述封闭构件中形成的一个或多个孔,以允许所述导管中的流体从其中穿过。

7.根据权利要求1或2所述的装置,其中所述装置包括流体压力控制系统,所述流体压力控制系统用于通过所述输入管线将流体供应到所述控制容积中,以在所述控制容积中提供用于作用于所述阀构件的所述流体压力。

8.根据权利要求7所述的装置,其中所述流体压力控制系统被布置成控制所述控制容积中的所述流体压力以控制所述阀构件的所述位置。

9.根据权利要求1或2所述的装置,其中所述装置包括上游压力传感器和/或下游压力传感器,所述上游压力传感器被布置成确定所述导管中的位于所述装置的上游的压力,所述下游压力传感器被布置成确定所述导管中的位于所述装置的下游的压力。

10.根据权利要求9所述的装置,其中所述装置包括流体压力控制系统,所述流体压力控制系统用于通过所述输入管线将流体供应到所述控制容积中,以在所述控制容积中提供用于作用于所述阀构件的所述流体压力,其中所述上游压力传感器和/或所述下游压力传感器连接到所述流体压力控制系统,其中所述流体压力控制系统被布置成使用所述导管中的所述流体的上游压力和/或下游压力来控制所述控制容积中的所述流体压力。

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