[实用新型]一种设有缓冲层的印花反光布有效

专利信息
申请号: 202023324054.3 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN214474069U 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 黄思美;杨国忠 申请(专利权)人: 成工业制衣(苏州)有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;G02B1/10;G02B1/14;G02B1/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215231 江苏省苏州市吴江区震泽镇开*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 设有 缓冲 印花 反光
【说明书】:

实用新型公开了一种设有缓冲层的印花反光布,包括耐磨层,耐磨层一侧设有反光层,耐磨层底部设有抗菌层,抗菌层底部设有连接层,连接层底部设有缓冲层,缓冲层底部设有透气层,透气层底部设有防水层;耐磨层能够延长布料的使用时间,反光层能够对光源进行反射,通抗菌层能有有效的防止细菌从外部侵入,设置缓冲层能够使得布料更为舒适,透气层能够提高布料的舒适性,清洗完毕时能够使得布料快速的风干,防水层能够防止雨水从外部渗入到布料内部,能够提高使用者在雨天穿戴的舒适程度,吸附层主要由活性炭构成,能够对内侧产生的细菌进行吸附,防止细菌对人体造成伤害,光滑层能够提高穿戴者的舒适程度。

技术领域

本实用新型涉及反光布领域,尤其涉及一种设有缓冲层的印花反光布。

背景技术

反光布可分为两种,一种就是传统意义上的反光布,还有一种就是反光喷绘布,反光喷绘布又叫晶彩格是在2005年推出的一种新型的可喷绘的反光材料,反光布根据材质的不同可分为反光化纤布、反光TC布、反光单面弹力布、反光双面弹力布等。

存在以下的问题:

传统的印花反光布在使用时缺乏阻挡细菌和防水的作用,在使用时表面容易堆积细菌,并且舒适度较差。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种设有缓冲层的印花反光布,解决了印花反光布不具备阻挡细菌以及不能防水的缺点,并且提高了印花反光布的舒适度。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:一种设有缓冲层的印花反光布,包括耐磨层,所述耐磨层一侧设有反光层,所述耐磨层底部设有抗菌层,所述抗菌层底部设有连接层,所述连接层底部设有缓冲层,所述缓冲层底部设有透气层,所述透气层底部设有防水层,所述防水层底部设有吸附层,所述吸附层底部设有光滑层,所述光滑层两侧设有封边。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述耐磨层与反光层为固定连接,所述耐磨层主要由高密度无纺布构成。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述耐磨层与抗菌层为固定连接,所述抗菌层由高密度熔喷布构成。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述抗菌层底部与连接层为固定连接,所述连接层底部设置有缓冲层,所述抗菌层通过连接层与缓冲层为固定连接,所述缓冲层主要由缓冲纤维构成,所述连接层在各个层之间均有设置。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述缓冲层通过连接层与透气层为固定连接,所述透气层的材质为木浆纤维。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述透气层通过连接层与防水层为固定连接,所述防水层为聚氨酯涂层。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述防水层通过连接层与吸附层为固定连接,所述吸附层主要由活性炭构成。

作为上述技术方案的进一步描述:

所述吸附层通过连接层与光滑层为固定连接,所述光滑层由蚕丝构成,所述光滑层外壁与封边为固定连接,所述封边将各个层包围。

本实用新型具有如下有益效果:

本实用新型通过耐磨层能够延长布料的使用时间,反光层能够对光源进行反射,通抗菌层能有有效的防止细菌从外部侵入,通过设置缓冲层能够使得布料更为舒适,透气层能够提高布料的舒适性,清洗完毕时能够使得布料快速的风干,防水层能够防止雨水从外部渗入到布料内部,能够提高使用者在雨天穿戴的舒适程度,吸附层主要由活性炭构成,能够对内侧产生的细菌进行吸附,防止细菌对人体造成伤害,通过光滑层能够提高穿戴者的舒适程度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成工业制衣(苏州)有限公司,未经成工业制衣(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202023324054.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top