[实用新型]反应釜有效

专利信息
申请号: 202023246114.4 申请日: 2020-12-29
公开(公告)号: CN214514542U 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 孟冽;梁妍;陶蕾;王闪;武建朝;曹保民 申请(专利权)人: 河北美荷药业有限公司
主分类号: B01J19/18 分类号: B01J19/18;B01J19/00;B01F7/16;B01F7/18
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 祁静
地址: 051530 河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 反应
【权利要求书】:

1.反应釜,其特征在于,包括:

罐体,顶部设有进料口,底部设有出料口;

第一搅拌轴,设置于所述罐体内,外周设有用于搅拌原料的第一搅拌件;以及

第二搅拌轴,平行于所述第一搅拌轴设置于所述罐体内,所述第二搅拌轴的外周设有用于搅拌所述原料的第二搅拌件;

其中,所述第一搅拌轴的转动方向与所述第二搅拌轴的转动方向相反;

所述第一搅拌件的外端向上方倾斜设置,所述第二搅拌件的外端向下方倾斜设置;或

所述第一搅拌件的外端向下方倾斜设置,所述第二搅拌件的外端向上方倾斜设置。

2.如权利要求1所述的反应釜,其特征在于,所述第一搅拌件的延伸方向与水平面之间的夹角与所述第二搅拌件的延伸方向与水平面之间的夹角相等。

3.如权利要求1所述的反应釜,其特征在于,所述第一搅拌件的外端还设有用于搅拌原料的条形板,所述条形板沿上下方向延伸,且所述条形板的板面垂直于所述第一搅拌轴的切向设置或垂直于所述第二搅拌轴的切向设置。

4.如权利要求1所述的反应釜,其特征在于,所述第一搅拌轴和所述第二搅拌轴的下端分别设有若干个水平向外延伸的清底件,若干个所述清底件在所述第一搅拌轴或第二搅拌轴的外周均匀排布。

5.如权利要求4所述的反应釜,其特征在于,所述清底件的下部设有用于清理所述罐体的底面的清理片,所述清理片与所述罐体的底面之间设有间隙。

6.如权利要求1所述的反应釜,其特征在于,所述第一搅拌轴和所述第二搅拌轴的下端分别设有若干个向外上方延伸的弧形搅拌件,所述弧形搅拌件的下边缘与所述罐体的内底面相匹配。

7.如权利要求1-6中任一项所述的反应釜,其特征在于,所述罐体的顶部设有用于驱动所述第一搅拌轴的第一电机,所述第二搅拌轴的顶部设有用于驱动所述第二搅拌轴的第二电机。

8.如权利要求1-6中任一项所述的反应釜,其特征在于,所述罐体的内壁上设有夹层,所述夹层用于通入加热介质。

9.如权利要求1-6中任一项所述的反应釜,其特征在于,所述罐体的顶部还设有分别用于观察所述第一搅拌轴和所述第二搅拌轴的观察窗,所述观察窗为透明材质构件。

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