[实用新型]低损耗隔磁片及碎磁设备

说明书

本实用新型公开了一种低损耗隔磁片及碎磁设备，所述低损耗隔磁片包括至少一层的磁性片和至少一层的双面胶层，所述至少一层的磁性片和至少一层的双面胶层依次层叠设置；所述磁性片由分离为多个碎片的带材形成，所述多个碎片之间的缝隙中设有硬质绝缘材料。本实用新型可实现磁片单元之间的彻底阻断，进而降低隔磁片的损耗，提升效率。

技术领域

本实用新型涉及无线充电技术领域，尤其涉及一种低损耗隔磁片及碎磁设备。

背景技术

随着消费电子行业的快速发展，电子产品功能愈发强大，其中无线充电功能已成为各大手机品牌厂商高端手机必备的功能，相对于传统的有限充电技术，无线充电拥有便捷、安全性高、环保等优势，其基本原理为发射端线圈产生一个电磁信号，利用电磁互感技术将能量传输到接收端线圈。

为保护手机内部其他电子元件不受无线充电过程中所产生的电磁场干扰以及提升无线充电能量转换效率，隔磁片成为无线充电模组中的必备材料，广泛应用的隔磁片材料主要为非晶、纳米晶、铁氧体等。为降低隔磁片材料在工作中所产生的涡流损耗，隔磁片需进行碎磁处理，即通过物理加压将隔磁片压碎至毫米级的单元，增加其表面电阻，减小工作状态下的涡流损耗进而控制发热量，在传统的碎磁方法中各个隔磁片在碎裂之后各个单元之间并没有物理阻隔，因此各磁片单元之间呈虚接状态，严重影响了碎磁工艺的效果。

为解决上述问题，得到低损耗的隔磁片，研发人员在磁片单元之间的裂纹处进行工艺改进。在公开号为CN108666115A的中国专利文件中公开了一种低损耗的非晶、纳米晶磁片的制作方法，该方法在碎磁工艺后增加了钝化工艺，使用氧化性的钝化液对单元界面进行钝化，在单元表面形成氧化绝缘层，增强碎磁效果，降低损耗。在公开号为CN108597849A的中国专利文件中公开了一种粉体表面绝缘、表面磷化法和表面氧化法实现碎磁的工艺，其特点在于使用磷酸腐蚀磁片形成缝隙并将绝缘颗粒填充至缝隙之中。上述方法均通过化学反应实现绝缘层，该方法控制难度较大，对材料有一定的损耗，使用有一定的局限性。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种低损耗隔磁片及碎磁设备，可降低涡流损耗。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：一种低损耗隔磁片，包括至少一层的磁性片和至少一层的双面胶层，所述至少一层的磁性片和至少一层的双面胶层依次层叠设置；所述磁性片由分离为多个碎片的带材形成，所述多个碎片之间的缝隙中设有硬质绝缘材料。

进一步地，所述带材为纳米晶带材或非晶带材。

进一步地，所述带材的厚度为14μm-28μm。

进一步地，所述硬质绝缘材料包括填充料，所述填充料的莫氏硬度为7-10，相对介电常数为1-10，粒径为200nm-20μm。

本实用新型还提出了一种用于制备如上所述的低损耗隔磁片的碎磁设备，包括依次设置的放料轴、印刷机、加热固化器、碾压辊、清洁辊和收料辊。

进一步地，所述放料轴和印刷机之间、印刷机和加热固化器之间、加热固化器和碾压辊之间、碾压辊和清洁辊之间、清洁辊和收料辊之间设有导向辊。

进一步地，所述印刷机为丝网印刷机。

本实用新型的有益效果在于：通过在磁性片上设置缝隙，并在缝隙中嵌入硬质绝缘材料，实现碎片之间的绝对隔离，增强碎磁工序的效果，有效降低磁性材料在工作状态下的涡流损耗。碎磁工序的整个过程均使用物理方法，对原材料没有损耗，利于对生产过程的控制。本实用新型可实现磁片单元之间的彻底阻断，进而降低隔磁片的损耗，提升效率。

附图说明

图1为本实用新型实施例一的一种低损耗隔磁片的截面结构示意图；

图2(a)为印刷图案示意图一；

图2(b)为印刷图案示意图二；