[实用新型]基于PLC控制的大宗气站系统

说明书

本实用新型涉及一种基于PLC控制的大宗气站系统，属于大宗气体供应系统技术领域。所述系统主要包括储罐、汽化器、流量计、纯化器、前过滤器、后过滤器、PLC控制装置和一级监控部，还可以包含二级监控部和泄露报警装置，气化后的气体通过前过滤器、纯化器、后过滤器连接形成的纯化通路进行纯化后，可以保证供应端有稳定且杂质含量满足要求的气体供应，而且所设置的两条纯化通路互相备用，更加保证了所述系统运行的稳定性；PLC控制装置、一级监控部、二级监控部以及泄露报警装置的组合使用，可以实现对整个供应过程中数据监控，能够及时发现问题并进行预警，保证系统运行的安全性和稳定性。

技术领域

本实用新型涉及一种基于PLC控制的大宗气站系统，属于大宗气体供应系统技术领域。

背景技术

在大宗气体供应领域，不同企业给出的技术方案各有不同，但重点都在与最终供应端的气体杂质含量是否满足要求，而在整个供应过程中是否存在安全隐患缺乏有效的监测，对整个供应过程中出现的问题不能及时了解和处理，所以业内急需一套完整的解决方案系统。

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题，本实用新型提供一种基于PLC控制的大宗气站系统，该系统一方面通过纯化通路上设置的前过滤器、纯化器以及后过滤器实现气体的过滤与纯化，保证供应端有稳定且杂质含量满足要求的气体供应，另一方面通过所设置的PLC控制装置以及监控部，可以实现对整个供应过程的监控，能够及时发现以及解决问题。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的。

基于PLC控制的大宗气站系统，所述系统包括储罐、汽化器、流量计、纯化器、前过滤器、后过滤器、PLC控制装置以及一级监控部；

前过滤器、纯化器、后过滤器依次连接形成纯化通路，且两条纯化通路并联，接近后过滤器的纯化通路输出端为大宗气站的供应端，接近前过滤器的纯化通路输入端按顺序依次与流量计、纯化器、储罐连接；PLC控制装置用于采集储罐内需要监控的参数(如压力、温度、液位、流量等)数据并将采集的数据传输给一级监控部完成人机画面交换，从而实现对整个供应过程的监控以及预警。

进一步地，所述一级监控部为Intouch组态软件，对PLC传输的数据进行数据监控、报警画面以及历史曲线等完成人机画面交换。

进一步地，所述系统还包括二级监控部，二级监控部为半导体厂的FMCS系统，PLC控制装置将半导体厂所需的参数数据传输给半导体厂的FMCS系统，供半导体厂务进行监控。

进一步地，所述系统还包括泄露报警装置，泄露报警装置与PLC控制装置信号连接，并通过PLC控制装置向一级监控部和二级监控部发出报警信号。

进一步地，所述泄露报警装置选用声光报警器，当检测到气体泄露到一定的浓度值时，发出声光报警。

进一步地，所述系统适用的大宗气体为液氩、液氮或液氧。

进一步地，前过滤器选用孔径为0.1μm的过滤器，后过滤器选用孔径为0.03μm的过滤器。

有益效果：

(1)本实用新型所述的纯化通路，通过前过滤器、纯化器、后过滤器的配合使用，实现对气体的过滤与纯化，保证供应端有稳定且杂质含量满足要求的气体供应；另外，所设置的两条纯化通路互相备用，更加保证了系统运行的稳定性；

(2)一级监控部、二级监控部以及泄露报警装置的组合使用，可以实现对整个供应过程中数据监控，能够及时发现问题并进行预警，保证系统运行的安全性和稳定性。

附图说明

图1为本实用新型所述系统中气体纯化的结构示意图。

其中，1-储罐，2-汽化器，3-流量计，4-纯化通路，5-纯化器，6-前过滤器，7-后过滤器，8-供应端。

具体实施方式