[实用新型]一种气体取样预处理装置及气体监测装置

权利要求书

1.一种气体取样预处理装置，其特征在于：包括除水挥发管道；所述除水挥发管道包括流体连通的制冷流道和制热流道，所述制冷流道用于凝结气体中的水，所述制热流道用于加热制冷流道处理后的气体，以减少挥发性有机气体凝结。

2.根据权利要求1所述的气体取样预处理装置，其特征在于：所述气体取样预处理装置还包括至少一个半导体制冷片；所述半导体制冷片包括制冷端和制热端，所述制冷流道位于半导体制冷片的制冷端一侧以与所述制冷端换热，用于凝结气体中的水；所述制热流道位于半导体制冷片的制热端一侧以与所述制热端换热，用于加热制冷流道处理后的气体。

3.根据权利要求1或2所述的气体取样预处理装置，其特征在于：所述气体取样预处理装置还包括水气分离机构，用于对所述制冷流道处理后的水和气体进行水气分离，并将水气分离后的气体输送至所述制热流道；该水气分离机构分别与所述制冷流道和所述制热流道流体连通。

4.根据权利要求1所述的气体取样预处理装置，其特征在于：所述气体取样预处理装置还包括温度控制系统，用于控制所述制冷流道内的温度达到第一设定值和/或控制所述制热流道内的温度达到第二设定值。

5.根据权利要求4所述的气体取样预处理装置，其特征在于：所述温度控制系统包括温度检测单元，所述温度检测单元包括：

制冷温度检测单元，用于检测所述制冷流道内气体温度；

制热温度检测单元，用于检测所述制热流道内气体温度。

6.根据权利要求5所述的气体取样预处理装置，其特征在于：所述气体取样预处理装置还包括至少一个半导体制冷片；所述半导体制冷片包括制冷端和制热端，所述制冷流道位于半导体制冷片的制冷端一侧以与所述制冷端换热，用于凝结气体中的水；所述制热流道位于半导体制冷片的制热端一侧以与所述制热端换热，用于加热制冷流道处理后的气体；

所述温度控制系统还包括控制单元，用于控制所述半导体制冷片的功率以调节所述制冷流道内气体温度达到第一设定值和/或所述制热流道内气体温度达到第二设定值。

7.根据权利要求6所述的气体取样预处理装置，其特征在于：所述控制单元根据所述制冷温度检测单元的输出值和/或所述制热温度检测单元的输出值，通过控制所述半导体制冷片的功率调节所述制冷流道内气体温度达到第一设定值和/或所述制热流道内气体温度达到第二设定值。

8.根据权利要求7所述的气体取样预处理装置，其特征在于：所述控制单元分别与所述温度检测单元、所述半导体制冷片电性连接。

9.根据权利要求4或6或7所述的气体取样预处理装置，其特征在于：所述第一设定值指使预处理气体中水汽凝结成水的温度。

10.根据权利要求9所述的气体取样预处理装置，其特征在于：所述第一设定值指气体霜点温度。

11.根据权利要求4或6或7所述的气体取样预处理装置，其特征在于：所述第二设定值指30℃以上或50℃以上。

12.一种气体取样预处理装置，其特征在于：所述气体取样预处理装置包括流体连通的制冷流道和制热流道，所述制冷流道用于凝结气体中的水，所述制热流道用于加热制冷流道处理后的气体，以减少挥发性有机气体凝结。

13.根据权利要求12所述的气体取样预处理装置，其特征在于：所述气体取样预处理装置还包括至少一个半导体制冷片；所述半导体制冷片包括制冷端和制热端，所述制冷流道位于半导体制冷片的制冷端一侧以与所述制冷端换热，用于凝结气体中的水；所述制热流道位于半导体制冷片的制热端一侧以与所述制热端换热，用于加热制冷流道处理后的气体。