[实用新型]非晶纳米晶雾化制粉系统

说明书

本实用新型公开了非晶纳米晶雾化制粉系统，特别的，包括旋转辊、耐热容器、喷气装置和喷水装置；该旋转辊相对耐热容器自转动，旋转辊的侧面上设置有冷却制粉区；该耐热容器位于旋转辊的上方，耐热容器上设置有引导流体走向的导流管，该导流管的开口朝向冷却制粉区，流体经导流管下落至冷却制粉区内；该喷气装置上设置有气流喷孔，该气流喷孔朝冷却制粉区设置，气流经气流喷孔喷射至冷却制粉区；该喷水装置上设置有水流喷孔，该水流喷孔朝向冷却制粉区设置且水流喷孔的开口朝向与旋转辊的侧面相切。本实用新型具有结构简单、能够制备D100＝120μm的大粒径球形非晶粉末等优点。

技术领域

本实用新型涉及雾化制粉领域，尤其是涉及非晶纳米晶雾化制粉系统。

背景技术

目前，行业内所使用的非晶粉主要是通过对非晶带材进行机械破碎的方式获得，受原材料和破碎设备的限制，通过该方式所得到的非晶粉，是粒径较大且外形轮廓不规则的片状粉末。使用这种非晶粉末制备非晶磁芯或非晶磁粉芯，在压制过程中容易将非晶粉末的绝缘层刺破，影响到元器件的性能。

随着电子设备和元器件不断地向微型化、高频化及大电流方向发展，行业对用于制备磁粉芯及电感的非晶粉末也提出了更高的要求，如球形度、粒度分布、氧含量等，但是，现有气雾化方法制备的非晶粉末，其粉末粒度往往只能达到D100＝25μm，难以满足日渐增长的使用需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种能够制备大粒径球形粉末的非晶纳米晶雾化制粉系统。

为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

非晶纳米晶雾化制粉系统，特别的，包括旋转辊、耐热容器、喷气装置和喷水装置；

该旋转辊相对耐热容器自转动，旋转辊的侧面上设置有冷却制粉区；

该耐热容器位于旋转辊的上方，耐热容器上设置有引导流体走向的导流管，该导流管的开口朝向冷却制粉区，流体经导流管下落至冷却制粉区内；

该喷气装置上设置有气流喷孔，该气流喷孔朝冷却制粉区设置，气流经气流喷孔喷射至冷却制粉区；

该喷水装置上设置有水流喷孔，该水流喷孔朝向冷却制粉区设置且水流喷孔的开口朝向与旋转辊的侧面相切。

本实用新型的工作原理如下：

原材料加热融化后，流入耐热容器内并经耐热容器的导流管流出，形成高温液体流并往旋转辊侧面的制粉区域自然降落。喷气装置通过气流喷孔往制粉区域喷射高压气流并冲击高温液体流，使高温液体流被雾化成液滴。高压气流随即携带液滴撞击到旋转辊的制粉区域。

开口朝向与旋转辊表面相切的水流喷孔往旋转辊的制粉区域喷射高压水流，从而在旋转辊的表面形成一层水膜。液滴被高压气流携带撞击到旋转辊的制粉区域后，自转动的旋转辊与液滴接触使液滴表面的气膜破裂，液滴直接与水膜接触并在水膜内加速冷却，形成非晶粉末或纳米晶粉末。

在一个实施方式中，旋转辊沿水平方向设置，冷却制粉区位于旋转辊侧面的顶部，水流喷孔沿水平方向设置，高压水流沿水平方向喷施至冷却制粉区，在旋转辊的表面形成水膜。水流喷孔还可以倾斜于竖直方向设置，高压水流倾斜于竖直方向喷射至冷却制粉区，在旋转辊的表面形成水膜。水流喷孔与竖直方向之间的夹角在60°～90°范围内。

在一个实施方式中，本非晶纳米晶雾化制粉系统还包括雾化罐，该旋转辊设置在雾化罐内；雾化罐的顶部设置有开口，该开口位于导流管的延伸方向上；雾化罐的底部设置有收集口，该收集口连通至水粉分离装置。