[实用新型]一种自清洁真空清洗炉

权利要求书

1.一种自清洁真空清洗炉，包括炉架主体（1）、清洗炉本体（2）、密封盖（3）、竖杆（4）和移动横杆（12），其特征在于：所述清洗炉本体（2）设于所述炉架主体（1）的上方，所述密封盖（3）、所述竖杆（4）和所述移动横杆（12）相连接，且所述密封盖（3）、所述竖杆（4）和所述移动横杆（12）均位于所述清洗炉本体（2）的一侧，所述密封盖（3）靠近所述清洗炉本体（2）的一侧设置有固定盘（5），所述固定盘（5）的一侧设置有支撑组件，支撑组件包括密封盖（3）和支撑网筒（6），所述支撑网筒（6）的表面上开设有置放口（8），所述支撑网筒（6）共设置有四个，且四个所述支撑网筒（6）呈倒梯形分布，所述炉架主体（1）与所述移动横杆（12）之间设置有滑动组件，滑动组件包括滚轮（7）和滚球（14），所述滚轮（7）设于所述移动横杆（12）的侧壁，所述滚球（14）转接于所述炉架主体（1）的内壁，且所述滚球（14）的表面与所述滚轮（7）的表面相接触。

2.根据权利要求1所述的一种自清洁真空清洗炉，其特征在于：所述支撑组件还包括衔接筒（9）和多个凸起（11），衔接筒（9）与所述支撑网筒（6）熔接固定，且衔接筒（9）与所述固定盘（5）通过螺纹旋固连接，多个凸起（11）设于所述置放口（8）的边侧位置。

3.根据权利要求1所述的一种自清洁真空清洗炉，其特征在于：所述滑动组件还包括限位杆（15），所述限位杆（15）为长条状且其与所述炉架主体（1）为一体式结构，所述移动横杆（12）内设有与所述限位杆（15）相匹配的杆槽，所述移动横杆（12）与所述炉架主体（1）形成有间隙（16）。

4.根据权利要求1所述的一种自清洁真空清洗炉，其特征在于：所述密封盖（3）的内壁上一体成型有限位块（10），限位块（10）与所述固定盘（5）之间通过紧固螺丝旋固连接。

5.根据权利要求1所述的一种自清洁真空清洗炉，其特征在于：所述炉架主体（1）的内部开设有液流腔（13），所述液流腔（13）的顶部设有帽塞。

6.根据权利要求1所述的一种自清洁真空清洗炉，其特征在于：所述滚轮（7）的表面上设有与所述滚球（14）相匹配的滚槽。