[实用新型]光学元件和显示模组有效
申请号: | 202022557912.2 | 申请日: | 2020-11-06 |
公开(公告)号: | CN213934267U | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 于佳;王旭;陈益千 | 申请(专利权)人: | 深圳惠牛科技有限公司 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B5/30 |
代理公司: | 深圳市恒程创新知识产权代理有限公司 44542 | 代理人: | 苗广冬 |
地址: | 518101 广东省深圳市宝安区新安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 元件 显示 模组 | ||
本实用新型公开一种光学元件和显示模组,其中,所述光学元件包括基材和设于所述基材至少一个表面的多层膜层;所述膜层包括低折射率膜层、中折射率膜层和高折射率膜层中的至少两种;多层所述膜层中,任意相邻两所述膜层的折射率不同;在所述基材的厚度方向上,设定距离所述基材最远的膜层为外层膜层,设定距离所述外层膜层与所述基材之间的膜层均为内层膜层;所述外层膜层为低折射率膜层,且与所述基材相贴合的内层膜层为中折射率膜层或低折射率膜层。本实用新型技术方案的光学元件可降低P光和S光的反射率。
技术领域
本实用新型涉及光学器件技术领域,特别涉及一种光学元件和显示模组。
背景技术
目前,在折叠光路或者pancake光路中,为了提高成像质量,对偏光片和相位延迟器的性能要求越来越高。目前,偏光片主要是偏振偏光元件PBS(polarization beamsplitter),相位延迟器优选四分之一波片QWP(quarter wave plate),为解决将上述器件单独暴露于空气中因菲涅尔反射造成的鬼影,通常使用QWP与PBS贴合的方式,但是一般地,PBS是由布拉格型反射偏振膜APF(Advanced Polarizer Film)和偏光片POL(Polarizer)贴合而成,APF表面材料具有双折射特性,且QWP与APF之间存在着折射率差异,如此,还是会存在较大的菲涅尔反射,以透P偏振光反S偏振光为参考,不能很好地降低P偏振光的反射率,在成像系统的光路中产生鬼影,影响人眼观察主像的清晰度和舒适度。
实用新型内容
本实用新型的主要目的是提供一种光学元件,旨在解决其表面反射率高的技术问题。
为实现上述目的,本实用新型提出的光学元件包括基材和设于所述基材至少一个表面的多层膜层;所述膜层包括低折射率膜层、中折射率膜层和高折射率膜层中的至少两种;多层所述膜层中,任意相邻两所述膜层的折射率不同;在所述基材的厚度方向上,设定距离所述基材最远的膜层为外层膜层,设定距离所述外层膜层与所述基材之间的膜层均为内层膜层;所述外层膜层为低折射率膜层,且与所述基材相贴合的内层膜层为中折射率膜层或低折射率膜层。
可选的实施例中,所述低折射率膜层的制备膜料为二氧化硅;
和/或,所述高折射率膜层的制备膜料为二氧化铪、二氧化锆、五氧化二钽、五氧化三钛、二氧化钛或含锆或钛的混合物中的至少一种;和/或,
所述中折射率膜层的制备膜料为氧化铝或者硅铝混合物。
可选的实施例中,所述内层膜层为中折射率膜层和高折射率膜层交替叠设;或,所述内层膜层为高折射率和低折射率膜层交替叠设。
可选的实施例中,所述膜层的层数范围为5~9层。
可选的实施例中,多层所述膜层的总厚度范围为250nm-400nm。
可选的实施例中,每层所述膜层的厚度范围为2nm-200nm。
可选的实施例中,所述光学元件包括:偏振元件或相位延迟元件。
本实用新型还提出一种显示模组,包括如上任一所述的偏光件。
本实用新型技术方案的光学元件包括基材和设于基材至少一个表面的多层膜层,多层膜层基于物理气相沉积法,可使用电子枪轰击膜料达到升华进而沉积在基材表面上,基于理想的非均匀膜系是膜层折射率随几何厚度作连续变化的原理,设置任意相邻两膜层的折射率不同,且膜层属于低折射率膜层、中折射率膜层和高折射率膜层中的至少两种,从而通过采用高低折射率的均匀膜层叠加搭配的方式在作用上与非均匀膜系的作用等效,从而实现膜层物理厚度、折射率以及膜层层数的合理匹配,有效降低光学元件至少一个表面的P偏振光和S偏振光的反射率,改善由此带来的鬼影情况,提高用户观察主像的清晰度。
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