[实用新型]反应杯混匀装置

说明书

本申请公开了一种反应杯混匀装置，涉及混匀设备的技术领域。本申请的反应杯混匀装置包括机架、旋转盘、第一旋转机构、混匀组件和反应室，旋转盘上设有多个用于安装反应杯的安装槽；第一旋转机构设于机架上，并与旋转盘传动连接，用于驱动旋转盘转动；反应室设于机架上，旋转盘设于反应室内，反应室上设有第三穿孔；混匀组件包括第二旋转机构和摩擦轮，第二旋转机构设于机架上，并与摩擦轮传动连接，用于驱动摩擦轮转动，摩擦轮与旋转盘相互间隔设置，且摩擦轮具有交叠部；其中，第二旋转机构设于反应室的外侧，交叠部穿过第三穿孔后与旋转盘沿径向方向交叠，用于令反应杯振动。本申请可以提高混匀效果，能够使混匀效果较为均匀。

技术领域

本申请涉及混匀设备的技术领域，具体而言，涉及一种反应杯混匀装置。

背景技术

现有技术中，一种荧光染料是具有特殊光学性能的纳米材料，当该荧光染料静止时间超过24小时会发生部分沉降，导致溶液不均匀，为保障溶液的均匀，所以需要混匀。

实用新型内容

本申请的目的是提供一种反应杯混匀装置，其能够使混匀效果较为均匀。

本申请的实施例是这样实现的：

第一方面，本实用新型实施例提供一种反应杯，反应杯的内表面上设有至少一个摩擦件。

于一实施例中，反应杯的外表面上设有第四凸缘，当反应杯设于安装槽内时，第四凸缘用于与旋转盘相抵，从而可以限制反应杯的上下移动。

第二方面，本实用新型实施例提供一种反应杯混匀装置，反应杯混匀装置包括机架、旋转盘、第一旋转机构、混匀组件和反应室，旋转盘上设有多个用于安装反应杯的安装槽；第一旋转机构设于机架上，并与旋转盘传动连接，用于驱动旋转盘转动；反应室设于机架上，旋转盘设于反应室内，反应室上设有第三穿孔；混匀组件包括第二旋转机构和摩擦轮，第二旋转机构设于机架上，并与摩擦轮传动连接，用于驱动摩擦轮转动，摩擦轮与旋转盘相互间隔设置，且摩擦轮具有交叠部；其中，第二旋转机构设于反应室的外侧，交叠部穿过第三穿孔后与旋转盘沿径向方向交叠，用于令反应杯振动。

于一实施例中，反应杯混匀装置还包括：至少一个反应杯，反应杯的内表面上设有至少一个摩擦件。

于一实施例中，反应杯混匀装置还包括：计数组件，计数组件包括码盘和计数光耦，计数光耦设于机架上，码盘与旋转盘传动连接。

于一实施例中，计数组件还包括第三支撑架，计数光耦通过第三支撑架固定于底板上。

于一实施例中，反应杯混匀装置还包括：零位组件，零位组件包括零位挡片和零位光耦，零位光耦设于机架上，零位挡片设于码盘上。

于一实施例中，零位组件还包括第四支撑架，零位光耦通过第四支撑架固定于底板上。

于一实施例中，反应室包括锅体和加热膜，锅体设于机架上，锅体的底部设有第一凹槽；加热膜设于第一凹槽内；其中，第三穿孔包括设于锅体侧壁的第一开口。

于一实施例中，反应室还包括：盖板，盖板盖设于锅体上，盖板上设有加样用孔、加试剂用孔、检测用孔。

于一实施例中，盖板上设有判杯用孔，锅体上设有判杯传感器。

于一实施例中，反应室还包括：隔热垫板，隔热垫板夹设于加热膜和机架之间。

于一实施例中，反应室还包括：外套，外套罩设于锅体、隔热垫板和盖板外；其中，第三穿孔还包括设于外套侧壁的第二开口。

于一实施例中，第一旋转机构包括中心轴、传动机构、第一旋转驱动件和第一支撑架，第一支撑架分别连接第一旋转驱动件和机架；第一旋转驱动件通过传动机构与中心轴传动连接；中心轴穿过第一穿孔和第二穿孔后与旋转盘连接。