[实用新型]一种蚀刻液再生硫酸铜设备有效
申请号: | 202022008194.3 | 申请日: | 2020-09-15 |
公开(公告)号: | CN213624391U | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 肖德良 | 申请(专利权)人: | 湘潭云萃环保技术有限公司 |
主分类号: | C23F1/46 | 分类号: | C23F1/46;B01F7/28 |
代理公司: | 长沙正务联合知识产权代理事务所(普通合伙) 43252 | 代理人: | 郑隽;吴婷 |
地址: | 411100 湖南省湘潭*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 蚀刻 再生 硫酸铜 设备 | ||
本实用新型公开了一种蚀刻液再生硫酸铜设备,属于蚀刻液回收技术领域,包括反应罐,反应罐底端的边侧固定焊接有立柱,立柱的底端固定设有底座,反应罐底端的中心位置处连通有输出管,输出管的中部固定设有电磁阀,输出管的正下方设有箱体,箱体底板的内部嵌设有电加热棒,箱体的顶端设有箱盖,箱盖的一端与输出管的输出端插接,本实用新型通过设有箱体,用于存放混合后的溶液,通过电加热棒对箱体内溶液进行加温,从而使硫酸铜被析出,气体通过排气罩和连接管输出到集液箱内,使气体被液化,液化的液体存储在集液箱内,通过压力泵的作用,使集液箱内回收的液体输送至反应罐被再次利用,减少资源的浪费,较为经济环保。
技术领域
本实用新型涉及一种设备,特别涉及一种蚀刻液再生硫酸铜设备。
背景技术
蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。印刷电板路经蚀刻生产后产生大量的含铜废蚀刻液。蚀刻液有碱性和酸性两大类。碱性蚀刻液废液中含有铜离子、铵根正离子、四氨合铜离子等,其中铜主要以Cu(NH3)42+ 形式存在,含铜量平均160g/L;目前,蚀刻废液的处理方法主要包括化学沉淀法、絮凝沉淀法、溶剂萃取法、回收铜、硫酸铜等。现有的蚀刻液与再生硫酸铜药液混合效率低,导致硫酸铜回收效率较低,且回收硫酸铜后的溶液直接排放,造成资源浪费,不够经济环保,目前的再生硫酸铜设备的生产工艺流程较长,成本较高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种蚀刻液再生硫酸铜设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种蚀刻液再生硫酸铜设备,包括反应罐,所述反应罐底端的边侧固定焊接有立柱,所述立柱的底端固定设有底座,所述反应罐底端的中心位置处连通有输出管,所述输出管的中部固定设有电磁阀,所述输出管的正下方设有箱体,所述箱体底板的内部嵌设有电加热棒,所述箱体的顶端设有箱盖,所述箱盖的一端与所述输出管的输出端插接,所述箱盖的另一端连通有排气罩,所述排气罩的输出端与连接管的一端连通,所述连接管的另一端与集液箱顶端的一侧插接,所述集液箱的一侧与所述反应罐的侧壁固定连接,所述集液箱顶端的中心位置处连通有排气管,所述集液箱顶端的另一侧固定设有压力泵,所述压力泵的输入端与所述集液箱连通,所述压力泵的输出端固定连接有导流管,所述导流管的输出端与所述反应罐侧壁的顶部插接,所述反应罐另一侧壁的顶部连通有入料管。
优选的,所述反应罐的顶端设有可拆卸的罐盖,所述罐盖顶端的中心位置处固定设有电动机,所述电动机的输出轴转动连接有搅拌轴,所述搅拌轴延伸入所述反应罐的内部,所述搅拌轴的顶部通过加强臂与固定环固定连接,所述固定环的底端固定设有若干根等间距排布的搅拌杆。
优选的,所述立柱的直径小于所述底座的直径,所述底座的底端嵌设在混凝土地面内。
优选的,所述箱盖底端的两侧均固定设有滑块,所述箱盖的横截面积等于所述箱体的横截面积。
优选的,所述箱体顶端的两侧均开设有滑槽,所述滑槽与所述滑块滑动连接,所述箱体底端的两侧均转动连接有滚动轮。
优选的,所述箱体的一端固定设有拉杆,所述拉杆呈倒U形,所述拉杆一端的中部固定设有开关面板,所述开关面板的表面固定设有电磁阀开关、压力泵开关、电加热棒开关和电机开关,所述电磁阀、所述压力泵、所述电加热棒和所述电动机分别通过电磁阀开关、压力泵开关、电加热棒开关和电机开关与外接电源电性连接。
优选的,所述排气罩呈喇叭状,所述连接管为U形管。
优选的,所述搅拌轴、所述固定环和所述搅拌杆均为空心体,所述搅拌轴、所述固定环、所述加强臂和所述搅拌杆均由耐腐蚀性材料制成。
与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果是:
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