[实用新型]一种永磁转子固定磁瓦结构有效
申请号: | 202021508158.7 | 申请日: | 2020-07-27 |
公开(公告)号: | CN212784933U | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 张继生;江爱国;刘海平;严新 | 申请(专利权)人: | 杭州微光电子股份有限公司 |
主分类号: | H02K1/27 | 分类号: | H02K1/27 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 尉伟敏 |
地址: | 311100 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 永磁 转子 固定 结构 | ||
本实用新型提供了一种永磁转子固定磁瓦结构,涉及一种永磁转子结构。它解决了现有技术中永磁转子磁瓦的固定问题。本永磁转子固定磁瓦结构,包括分布转子周向的在磁瓦固定槽,本实施例的转子具有上下两个圈磁瓦固定槽101,上下两个圈的磁瓦固定槽周向相互错开一定的角度,即轴向上相邻磁瓦固定槽的齿槽彼此错开,所述磁瓦固定槽底面分布有齿槽,所述齿槽为“V”字形齿槽。通过设置V”字形,增加了磁瓦固定槽与磁瓦对应的表面积。本实用新型通过在磁瓦固定槽底面设置,齿槽提高粘合剂的均匀度,保证剂附着量,增加粘合剂在磁瓦固定槽上的附着面积,提高磁瓦粘合强。
技术领域
本实用新型属于电机技术领域,特别是一种永磁转子结构。
背景技术
电机永磁转子的周向表面需要固定磁瓦,转子上设有磁瓦固定槽,磁瓦固定在磁瓦固定槽内,磁瓦一般采用粘合剂粘合在转子上的磁瓦固定槽内,但是,守装配工艺的影响,粘合剂附着量和均匀度难于控制。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有技术存在的上述问题,提出了一种永磁转子固定磁瓦结构,本永磁转子固定磁瓦结构能够提高粘合剂的均匀度,保证剂附着量,增加粘合剂在磁瓦固定槽上的附着面积,提高磁瓦粘合强。
本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现: 一种永磁转子固定磁瓦结构,包括磁瓦固定槽,所述磁瓦固定槽底面分布有齿槽。
在某些实施方式中,所述齿槽为“V”字形齿槽。
在某些实施方式中,磁瓦边缘对应的齿槽密度大于磁瓦中部对应的齿槽密度。
在某些实施方式中,相对过磁瓦固定槽中心的轴截面,磁瓦固定槽底面的一侧齿槽比另一侧的齿槽密度大。
在某些实施方式中,所述齿槽相对于转子轴向倾斜设置。
在某些实施方式中,倾斜齿槽相对于转子轴向倾斜角度为45度。
在某些实施方式中,所述上下相邻磁瓦固定槽的齿槽彼此错开。
与现有技术相比,本永磁转子固定磁瓦结构具有以下优点:
本实用新型通过在磁瓦固定槽底面设置,齿槽提高粘合剂的均匀度,保证剂附着量,增加粘合剂在磁瓦固定槽上的附着面积,提高磁瓦粘合强。
附图说明
在附图(其不一定是按比例绘制的)中,相似的附图标记可在不同的视图中描述相似的部件。具有不同字母后缀的相似附图标记可表示相似部件的不同示例。附图以示例而非限制的方式大体示出了本文中所讨论的各个实施例。
图1是磁瓦与永磁转子配合的轴测示意图;
图2是永磁转子端部的示意图;
图3是永磁转子的前视示意图;
图4是实施例二的示意图;
图5是实施例三的示意图;
图6是实施例四的示意图。
图中,转子1,磁瓦2,圈磁瓦固定槽101,“V”字形齿槽1011。
具体实施方式
以下是本实用新型的具体实施例,并结合附图对本实用新型的技术方案作进一步的描述,但本实用新型并不限于这些实施例,以下实施方式并不限制权利要求书所涉及的实用新型。此外,实施方式中说明的特征的所有组合未必是实用新型的解决方案所必须的。
本领域的普通技术人员应理解,所有的定向参考(例如,上方、下方、向上、上、向下、下、顶部、底部、左、右、垂直、水平等)描述性地用于附图以有助于读者理解,且不表示(例如,对位置、方位或用途等)对由所附权利要求书限定的本实用新型的范围的限制。另外,术语“基本上”可以是指条件、量、值或尺寸等的轻微不精确或轻微偏差,其中的一些在制造偏差或容限范围内。
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