[实用新型]支撑机构及装设有该支撑机构的磁场热处理炉有效

专利信息
申请号: 202021422865.4 申请日: 2020-07-17
公开(公告)号: CN212833869U 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 易明 申请(专利权)人: 杭州曼德新材料有限公司
主分类号: C21D1/04 分类号: C21D1/04;C21D9/00;H01F41/02
代理公司: 杭州创智卓英知识产权代理事务所(普通合伙) 33324 代理人: 唐超文
地址: 311100 浙江省杭州市余*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 支撑 机构 装设 磁场 热处理
【权利要求书】:

1.一种支撑机构,其特征在于,包括:

炉盖(10);

若干个支撑组(20),各个所述支撑组(20)均垂直装设于所述炉盖(10)的同一端面,各个所述支撑组(20)间相平行间隔;

及料盘(30),所述料盘(30)活动放置于各个所述支撑组(20)远离所述炉盖(10)的端部,且所述料盘(30)与所述炉盖(10)相平行。

2.如权利要求1所述的支撑机构,其特征在于,所述支撑组(20)包括若干个支撑柱(21),各个所述支撑柱(21)相平行间隔并均与所述炉盖(10)相垂直连接,且各个所述支撑柱(21)的长度相同。

3.如权利要求2所述的支撑机构,其特征在于,所述支撑组(20)还包括横杆(22),所述横杆(22)与各个所述支撑柱(21)远离炉盖(10)的端部均相连接,且所述横杆(22)能够与所述料盘(30)面向炉盖(10)的端面相抵接。

4.如权利要求3所述的支撑机构,其特征在于,所述支撑柱(21)面向所述料盘(30)的一端开设有安装凹槽,所述横杆(22)可拆卸装设于所述安装凹槽内。

5.如权利要求1所述的支撑机构,其特征在于,所述料盘(30)开设有若干个通孔(31),各个所述通孔(31)均与所述炉盖(10)相正对设置。

6.如权利要求1所述的支撑机构,其特征在于,所述料盘(30)的周向边缘设有至少两个吊装部(32),各个所述吊装部(32)之间等间距排布。

7.如权利要求1所述的支撑机构,其特征在于,所述料盘(30)的中心开设有加磁通孔(33)。

8.一种磁场热处理炉,其特征在于,所述磁场热处理炉包括权利要求1-7任一项所述的支撑机构。

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