[实用新型]一种可调谐太赫兹吸波器有效
| 申请号: | 202021332185.3 | 申请日: | 2020-07-09 |
| 公开(公告)号: | CN212162092U | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
| 发明(设计)人: | 王金凤;郎婷婷;王钢棋;张锦晖;肖美玉;岑文洋;余振宇 | 申请(专利权)人: | 中国计量大学 |
| 主分类号: | H01Q17/00 | 分类号: | H01Q17/00;G02B5/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 310018 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 调谐 赫兹 吸波器 | ||
1.一种可调谐太赫兹吸波器,其特征在于:从底部向上依次包括金属层(1)、掺杂硅层(2)、钛酸锶STO层(3)、石墨烯层(4);所述掺杂硅层(2)、所述STO层(3)、所述石墨烯层(4)周期性排列在所述金属层(1)上,所述掺杂硅层(2)、所述STO层(3)、所述石墨烯层(4)排列周期小于入射波长。
2.根据权利要求1所述的可调谐太赫兹吸波器,其特征在于:所述金属层(1)采用蒸镀工艺镀到表面平整的电介质层上,然后利用薄膜沉积技术在所述金属层(1)上依次沉积所述掺杂硅层(2)和STO层(3),最后利用光刻曝光技术来制造石墨烯图案并沉积所述石墨烯层(4)。
3.根据权利要求1所述的可调谐太赫兹吸波器,其特征在于:所述金属层(1)为完美电导体,所述金属层(1)在太赫兹波段的电导率大于107S/m,厚度为200纳米;所述掺杂硅层(2)采用掺硼的p型硅,厚度为50微米;所述STO层(3)介电常数随温度变化,厚度为2微米。
4.根据权利要求1所述的可调谐太赫兹吸波器,其特征在于:所述石墨烯层(4)采用周期性排列的单层石墨烯。
5.根据权利要求1所述的可调谐太赫兹吸波器,其特征在于:所述石墨烯层(4)的形状为长方形,长方形的宽度为60微米,吸波器单元结构周期为80微米。
6.根据权利要求1所述的可调谐太赫兹吸波器,其特征在于:所述石墨烯层(4)的形状为正八边形,边长为40微米,吸波器单元结构周期为80微米。
7.根据权利要求1所述的可调谐太赫兹吸波器,其特征在于:吸波器结构工作波段为0.1~1THz。
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