[实用新型]一种全自动磁环蒸汽清洗设备有效

专利信息
申请号: 202021309456.3 申请日: 2020-07-06
公开(公告)号: CN213915142U 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 李蒙;朱伟然;胡乐 申请(专利权)人: 上海思恩装备科技股份有限公司
主分类号: B08B3/04 分类号: B08B3/04;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12;B08B3/02;B08B13/00;H01F41/02;F26B5/04;F26B25/00
代理公司: 北京中索知识产权代理有限公司 11640 代理人: 高杨
地址: 201600 上海市松*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 全自动 蒸汽 清洗 设备
【说明书】:

发明提出一种全自动磁环蒸汽清洗设备,将磁环放置在承载母篮内,有电气控制器控制清洗、漂洗、干燥过程,包括了外壳、碱清洗结构、水清洗结构、干燥结构以及蒸汽加热执行机构四,进料结构、清洗槽、漂洗槽、干燥槽以及出料结构依次组装在一起,形成设备主体部分,在设备主体部分内部安装水路系统、气路系统、蒸汽系统和电气控制器,所述的进料结构和出料结构分别连接壳体两端,所述进料结构和出料结构之间贯穿有清洗槽以及干燥槽,所述的承载母篮经进料结构输送至抓取位置进行清洗、干燥后被送至出料结构上,满足太阳能和LED等行业对磁环清洗的高效、洁净的要求。

技术领域

本实用新型涉及一种全自动磁环蒸汽清洗设备,用于行业内多晶硅生产的磁环清洗干燥领域,以有效的去除表面附着的颗粒,并且做到磁环干进干出。

背景技术

在目前行业中对于多晶硅生产的磁环一般采用人工清洗,即磁环放置在含有碱液的不锈钢槽体内,长时间浸泡后再用纯水清洗。这种方法的效率非常低,耗时耗人工,并且不易做到干燥的问题,为此我们提出一种全自动磁环蒸汽清洗设备。

实用新型内容

本实用新型的目的在于:提供一种全自动磁环蒸汽清洗设备,以解决半导体行业内多晶硅磁环清洗过程中的耗时耗人工问题,提高清洗效率,减少人工因素的干扰。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种全自动磁环蒸汽清洗设备,将磁环放置在承载母篮内,有电气控制器控制清洗、漂洗、干燥过程,包括了外壳、碱清洗结构、水清洗结构、干燥结构以及蒸汽加热执行机构四,其特征在于:进料结构、清洗槽、漂洗槽、干燥槽以及出料结构依次组装在一起,形成设备主体部分,在设备主体部分内部安装水路系统、气路系统、蒸汽系统和电气控制器,所述的进料结构和出料结构分别连接壳体两端,所述进料结构和出料结构之间贯穿有清洗槽以及干燥槽,所述的承载母篮经进料结构输送至抓取位置进行清洗、干燥后被送至出料结构上,所述的清洗槽以及干燥槽设在外壳内,所述的外壳为封闭结构,所述清洗槽进口处设有密封门一,所述干燥槽出口处均设有密封门二,所述清洗槽进口处以及干燥槽出口处均设有传感器;所述的碱清洗结构,包括清洗腔、碱清洗结构的执行机构一,所述清洗腔内与气路系统连通的鼓泡设备一以及设在清洗腔内的超声加热系统均由执行机构一控制;所述的水清洗结构,包括清洗腔、水清洗结构的执行机构二,所述清洗腔内与气路系统连通的鼓泡设备二以及设在清洗腔内的加热系统二均由执行机构二控制;所述的干燥结构,包括干燥腔和气体干燥结构的执行机构三,所述干燥腔之外设有气体干燥循环机构,所述气体干燥循环机构由执行机构三控制,所述承载母篮在干燥腔内循环干燥;所述承载母篮通过出料机构连接密封门二,所述密封门二安装有吹扫装置。

优选的,所述的电气控制器包括MCU/CPU控制的手动按钮和自动按钮的操作面板,所述操作面板内包括可编程逻辑控制器PLC,所述控制器PLC接收传感器信号控制电气连接的碱清洗结构的执行机构一、水清洗结构的执行机构二、密封门、蒸汽干燥结构的执行机构三以及蒸汽加热执行机构四。

优选的,所述的碱清洗结构设有三个清洗槽。

优选的,所述的传感器分别设在进料结构进出两处、清洗腔内外两侧、干燥腔外侧以及出料结构进出两处。

本实用新型与现有通用做法比较,优越性在于:

1.自动化程度高,可根据不同工艺条件进行不同的清洗干燥步骤;

2.将磁环清洗效率进一步提高,实现连续生产;

3.实现干进干出,避免人为因素干扰;

4.磁环承载母篮在腔体内进行对应的工艺清洗,实现全面清洗;

5.利用厂区蒸汽进行加热,降低制造成本,减少能源损耗,节能保;

6.大量减少操作人员数量,降低人工成本。

附图说明

图1为本实用新型主视图

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