[实用新型]水处理剂双级旋搅池有效

专利信息
申请号: 202021192133.0 申请日: 2020-06-24
公开(公告)号: CN212758422U 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 胡振东;张帆;李长青 申请(专利权)人: 安徽伟祥新材料有限公司
主分类号: B01F13/10 分类号: B01F13/10;B01F15/02
代理公司: 淮安市科翔专利商标事务所 32110 代理人: 韩晓斌
地址: 244000 安徽省铜*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 水处理 剂双级旋搅池
【权利要求书】:

1.水处理剂双级旋搅池,包括呈并排布置的一级旋搅池与二级旋搅池,一级旋搅池与二级旋搅池的形状结构相同;

其特征在于:一级旋搅池包括旋搅池体,旋搅池体的内部为旋搅腔,旋搅池体的顶部设有旋转电机,旋转电机的下部设有呈竖向布置的旋转轴,旋转轴的下端设有旋转叶片,旋转叶片安装在旋搅池体的内底部;旋搅池体包括旋搅池内池体,旋搅池内池体的底部设有输液管道,输液管道的一端与旋搅池内池体的底部之间设有出液泵,输液管道的另一端为自由端。

2.根据权利要求1所述的水处理剂双级旋搅池,其特征在于:一级旋搅池的顶部设有支撑架,所述支撑架包括底盘与顶盘,底盘与顶盘的外周面之间设有若干根呈平行布置的支撑柱,底盘安装在一级旋搅池的顶部上,旋转电机安装在顶盘上;顶盘上设有散热网,散热网上设有若干散热孔。

3.根据权利要求1所述的水处理剂双级旋搅池,其特征在于:一级旋搅池与二级旋搅池的顶部均设有护栏,护栏包围在一级旋搅池与二级旋搅池的顶部周面位置。

4.根据权利要求1所述的水处理剂双级旋搅池,其特征在于:旋搅池体的顶部设有添加剂槽,添加剂槽的顶部为开口结构,添加剂槽的底面设有若干下液孔,下液孔呈矩阵布置,下液孔安装在旋搅池体的内底部位置。

5.根据权利要求4所述的水处理剂双级旋搅池,其特征在于:添加剂槽包括添加剂槽体,添加剂槽体的底部设有出液软管,出液软管的上端与添加剂槽体的底部连通,出液软管的下端设有出液球,出液球安装在旋搅池体的内顶部,出液球的表面为网状结构。

6.根据权利要求5所述的水处理剂双级旋搅池,其特征在于:添加剂槽体的底部设有底架,底架的下端两侧均设有定位管,定位管之间安装有安装轴,安装轴的外周面套装有导向轮,出液软管绕过导向轮的外周面。

7.根据权利要求6所述的水处理剂双级旋搅池,其特征在于:旋搅池体的正面与背面的底部均设有引流片;引流片包括引流片体,引流片体的上部对外朝向面位置设有第一引流面,引流片体的下部对外朝向面位置均设有第二引流面,第二引流面与第一引流面呈倾斜状,第一引流面的倾斜度大于第二引流面的倾斜度。

8.根据权利要求1所述的水处理剂双级旋搅池,其特征在于:旋搅池内池体的内底部设有导流部,导流部的顶面为弧面形状,导流部的中间位置向下凹陷。

9.根据权利要求1所述的水处理剂双级旋搅池,其特征在于:旋搅池体的正面与背面均设有呈倾斜状的散热片,相邻两个散热片之间为散热槽。

10.根据权利要求1所述的水处理剂双级旋搅池,其特征在于:旋搅池体的底部四角位置均设有支撑脚。

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