[实用新型]一种焦铜处理装置

说明书

本实用新型涉及一种焦铜处理装置，其包括电镀池和设置在电镀池内的挂具，挂具上连接有推动装置，推动装置包括设置在电镀池顶面上的滑动杆，挂具设置在滑动杆上且与滑动杆相对静止，推动装置还包括用于使滑动杆进行往复运动的滑动件。本实用新型具有提高镀层质量的效果。

技术领域

本实用新型涉及焦铜处理的技术领域，尤其是涉及一种焦铜处理装置。

背景技术

镀铜是在电镀工业中使用最广泛的一种预镀层，包括锡焊件、铅锡合金、锌压铸件在镀镍、金、银之前都要镀铜，用于改善镀层结合力。目前使用最多的镀铜溶液是氰化物镀液、硫酸盐镀液和焦磷酸盐镀液。其中通过焦磷酸盐镀液进行镀铜的装置为焦铜处理装置。

现有的授权公告号为CN207749197U的中国专利公开了一种电镀槽，该电镀槽的内侧壁上设置有多个凸条，凸条内设置有中空部，电镀槽内设置有绝缘板，绝缘板包括边框与导电槽，凸条设置在电镀槽的内侧壁与绝缘板之间，边框设置在凸条上，凸条正对导电槽，凸条内的中空部内用于放置导电物，电镀槽内放置绝缘板，绝缘板的边框可对应电镀槽内侧壁上的四周并且边框设置在凸条上，导电槽对应电镀槽的中心位置。

上述中的现有技术方案存在以下缺陷：通过上述电镀槽进行电镀时，待电镀物体放置在电镀槽内后，当待电镀的物体上有许多细缝存在时，电镀槽内的电镀液难以进入待电镀物体的细缝中，导致整个电镀物体的镀层质量不高。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的是提供一种焦铜处理装置,其具有提高镀层质量的优点。

本实用新型的上述实用新型目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种焦铜处理装置，包括电镀池和设置在电镀池内的挂具，所述挂具上连接有推动装置，所述推动装置包括设置在电镀池顶面上的滑动杆，所述挂具设置在滑动杆上且与滑动杆相对静止，所述推动装置还包括用于使滑动杆进行往复运动的滑动件。

通过采用上述技术方案，挂具设置在滑动杆上且与滑动杆相对静止，通过滑动件作用在滑动杆上时，滑动杆会在滑动件的作用下进行往复运动，使得挂具在滑动杆的带动下进行往复运动，进而可使电镀液进入挂件的缝隙中，将挂件的缝隙处电镀上镀层，提高镀层的质量。

本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为：所述滑动件包括与滑动杆固定连接的滑动板，所述滑动板上开设有通槽，所述通槽沿竖直方向向滑动板的两端延伸；所述通槽内穿设有移动杆，所述移动杆的一端穿出通槽固定连接有连接杆，所述连接杆远离移动杆的一端连接有转动电机；所述推动装置还包括固定连接在电镀池的顶面上的滑轨，所述滑动杆在滑轨上沿水平方向进行往复运动。

通过采用上述技术方案，启动转动电机，转动电机的电机轴会带动连接杆转动，在连接杆的转动下移动杆会在通槽内进行滑动。由于滑轨是固定连接在电镀池的顶面上，而且滑动板与滑动杆固定连接，因此滑动板与滑动杆会在水平方向进行往复运动。

本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为：所述移动杆远离连接杆的一端穿出通槽连接有限位块，所述限位块位于通槽外且与滑动板的侧壁相接触。

通过采用上述技术方案，限位块设置后能够防止移动杆脱离通槽，保证滑动杆的往复运动能够正常进行。

本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为：所述滑轨包括固定连接在电镀池顶面上的若干滑块，每一所述滑块均沿滑动杆的长度方向贯通自身开设有与滑动杆对应的滑动槽，所述滑动杆滑动设置在若干滑动槽内。

通过采用上述技术方案，每一滑块上均沿滑动杆的滑动方向开设了滑动槽后，滑动杆穿设在滑动槽内，即可在滑动槽内滑动。

本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为：所述滑动槽的内侧壁上设置有若干容纳槽，每一所述容纳槽内均设置有滚珠，所述滚珠滚动设置在对应的容纳槽内。