[实用新型]一种镭射光与摄像同轴的激光刻字机精密聚焦机构有效

专利信息
申请号: 202020921331.X 申请日: 2020-05-27
公开(公告)号: CN212599677U 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 肖辉柱 申请(专利权)人: 深圳市弗镭斯激光技术有限公司
主分类号: B23K26/362 分类号: B23K26/362;B23K26/03;B23K26/064;B23K26/046;B23K26/70
代理公司: 佛山高业知识产权代理事务所(普通合伙) 44562 代理人: 周玉婷
地址: 518000 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 镭射 摄像 同轴 激光 刻字 精密 聚焦 机构
【说明书】:

实用新型涉及一种镭射光与摄像同轴的激光刻字机精密聚焦机构,包括机架,所述机架设有镭射光源组件,所述镭射光源组件的光路于机架内依次设有调焦反射镜片组、偏转镜片组、聚焦镜片组以及自发光源,所述聚焦镜片组一侧设有光路相通的摄像组件,本实用新型整体采用镭射光与摄像同轴的结构,降低了整体结构的复杂度,使得激光路、摄像路、光源路三路重合的平行光聚焦,因而加工精度相比较与旧的设备方案而言更高,降低了设备成本,提高了生产效率,保障了生产质量。

技术领域

本实用新型涉及一种激光刻字设备的组成机构,具体而言,涉及的是一种镭射光与摄像同轴的激光刻字机精密聚焦机构。

背景技术

在半导体芯片镭射印字领域,针对1006等小材料,由于材料很小,机械结构定位精度已经无法满足要求,此时,采用摄像头进行精密定位,无疑成为了一种必须的选择。

目前常规的半导体激光刻字机的镭射光与摄像机光路是分开设置,以降低相互之间光路的干涉,并且也不需要过多复杂的配合零件来进行调整,但是这样一来观测精度就会下降;而存在一种类型的激光刻字机,其镭射光与摄像机光路同轴,但是需要十分复杂的光路配合以及不够可靠的调节元件来实现上述功能,因而造成实用度不佳且制造难度提升的问题,仅仅因精度提升带来的成本增加,使得整体的设计变得顾此失彼。

实用新型内容

针对背景技术中存在的技术缺陷,本实用新型提出一种镭射光与摄像同轴的激光刻字机精密聚焦机构,解决了上述技术问题以及满足了实际需求,具体的技术方案如下所示:

一种镭射光与摄像同轴的激光刻字机精密聚焦机构,包括机架,所述机架设有镭射光源组件,所述镭射光源组件的光路于机架内依次设有调焦反射镜片组、偏转镜片组、聚焦镜片组以及自发光源,所述聚焦镜片组一侧设有光路相通的摄像组件。

作为本实用新型进一步的技术方案,所述调焦反射镜片组包括由调焦电机上下驱动的调焦镜片座,所述调焦镜片座的下方设有45°反射镜片座,所述调焦镜片座内设有调焦凸透镜,所述45°反射镜片座内设有反射镜。

作为本实用新型进一步的技术方案,所述调焦电机为精密螺旋千分头,其输出端作竖直方向的上下运动,所述调焦凸透镜通过镜框固定在调焦镜片座的表面上。

作为本实用新型进一步的技术方案,所述偏转镜片组包括Y轴电机、Y轴镜片、X轴电机、X轴镜片,以及设于所述Y轴电机的输出端一侧、并与所述Y轴电机固定连接偏转框架,所述Y轴镜片设于所述Y轴电机的输出端,所述X轴电机固定在所述偏转框架上后,输出端连接所述X轴镜片。

作为本实用新型进一步的技术方案,所述X轴镜片与所述反射镜的中心连线,所述Y轴镜片与所述X轴镜片的中心连线,两者相互垂直。

作为本实用新型进一步的技术方案,所述聚焦镜片组包括沿着光路依次设置的平面透镜以及聚焦透镜,所述平面透镜设于竖直方向上旋转的调节框架之中。

作为本实用新型进一步的技术方案,所述摄像组件设于机架的底端,且该摄像组件包括有摄像镜头,所述摄像镜头的中心与平面透镜相通且对齐。

作为本实用新型进一步的技术方案,所述自发光源设于所述聚焦镜片组的下方的机架最底端,且环绕于光路设置。

作为本实用新型进一步的技术方案,所述镭射光源组件竖直朝下地设于机架上部。

本实用新型具有的有益效果在于:整体采用的是更加精简可靠的镭射光与摄像同轴的结构,使得应用该聚焦机构的激光刻字机可以降低整体结构的复杂度,采用激光路、摄像路、光源路三路重合的平行光聚焦方式,使得加工精度相比较与旧的设备方案而言更加优秀,从而降低了设备成本,提高了生产效率,保障了生产质量。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图。

图2调焦反射镜片组2的放大结构示意图。

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