[实用新型]棱镜磁流变抛光设备

说明书

本实用新型涉光学零件抛光设备技术领域，具体涉及棱镜磁流变抛光设备，包括机体，所述机体上设有升降台，所述升降台下方设有抛光头；所述升降台下方设有抛光槽，所述抛光槽内设有可对工件进行夹持的夹具，所述夹具内设有永磁体；所述抛光头内沿轴向设有磁流变液通道，所述磁流变液通道的外侧同轴设有若干组平面径向螺旋线圈，所述抛光头伸入所述升降台内的部位设有滑环，所述升降台内设有与所述滑环滑动连接的电刷；本实用新型提高了磁流变抛光时所需的柔性抛光模的面积，且平面径向螺旋线圈与夹具内的永磁体可在两者之间形成分布均匀的稳定磁场，使得形成的柔性抛光膜分布均匀，有助于提高抛光质量。

技术领域

本实用新型涉光学零件抛光设备技术领域，具体涉及棱镜磁流变抛光设备。

背景技术

随着科学技术的发展，现代光学系统对光学零件的表面形状精度、表面粗糙度以及亚表面损伤程度的要求越来越高，这对光学制造技术不断提出新的挑战，各种先进的确定性抛光技术也不断涌现。

目前应用较为广泛的抛光技术包括计算机控制光学表面成型(CCOS)抛光和磁流变抛光两种。计算机控制光学表面成型(CCOS)抛光技术，是一种依靠正压力实现材料有效去除的加工方法，典型的CCOS结构是在薄金属板上覆盖沥青，该结构通常也称为“刚性工具”，通过计算机控制每一区域的驻留时间和抛光压力等参数，精确控制光学零件的材料去除量，因此CCOS抛光技术去除效率高，但其去除函数不稳定，收敛效率低。磁流变抛光技术利用磁流变液在梯度磁场中发生流变效应形成柔性抛光模同加工区域发生全面接触，可得到近零亚表面损伤的加工效果，但是常规的磁流变抛光主要采用工件与抛光头之间的点接触实现材料的抛光去除，因此效率受到了一定的限制。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的是克服现有技术中的缺陷，提供棱镜磁流变抛光设备，抛光头与工件的接触面积大，使得抛光效率得以提高。

本实用新型的棱镜磁流变抛光设备，机体，所述机体上设有升降台，所述升降台下方设有抛光头，所述升降台内设有驱动所述抛光头转动的第一驱动源；所述升降台下方设有抛光槽，所述抛光槽内设有可对工件进行夹持的夹具，所述夹具内设有永磁体，所述机体内设有用于驱动所述抛光槽转动的第二驱动源；所述抛光头内沿轴向设有磁流变液通道，所述磁流变液通道的外侧同轴设有若干组平面径向螺旋线圈，所述抛光头伸入所述升降台内的部位设有滑环，两个所述滑环分别连接至所述平面径向螺旋线圈的两端，所述升降台内设有与所述滑环滑动连接的电刷。

进一步，每组平面径向螺旋线圈通电后的电磁极性方向相同，每组平面径向螺旋线圈的半径和匝数相等，且所有的平面径向螺旋线圈串联并沿所述磁流变液通道的轴向层叠设置。

进一步，所述永磁体的形状为圆片型，所述永磁体的半径与所述平面径向螺旋线圈的半径相同，且所述永磁体相对于所述抛光头的一端的极性与所述平面径向螺旋线圈通电后产生的极性相反。

进一步，所述抛光头采用导磁材料制成，所述磁流变液通道的内壁设有非磁导材料制成的磁屏蔽层，所述磁屏蔽层与磁流变液通道的内壁之间设有若干环棱，若干所述环棱将位于磁屏蔽层与所述磁流变液通道的内壁之间的区域隔设出多个空气间隙。

进一步，所述抛光槽侧壁设有溢流孔，所述机体内位于所述溢流孔的外侧固定设有溢流槽，所述溢流槽为环状，所述溢流槽连通有磁流变液回收管道。

本实用新型的有益效果是：本实用新型公开的棱镜磁流变抛光设备，磁场源的尺寸大小不受限制，有利于提高磁流变抛光时所需的柔性抛光模的面积，且平面径向螺旋线圈与夹具内的永磁体可在两者之间形成分布均匀的稳定磁场，使得形成的柔性抛光膜分布均匀，有助于提高抛光质量。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步描述：

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的抛光头的结构示意图；