[实用新型]立式吸附器及气体纯化吸附系统

权利要求书

1.一种立式吸附器，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体为中空结构，所述壳体的上表面设有气体出口和/或气体入口，所述壳体的下表面设有气体入口和/或气体出口；

气体分布器，所述气体分布器设在所述壳体内且位于所述壳体上表面和下表面之间，所述气体分布器包括邻近所述壳体上表面布置的第一气体分布器和邻近所述壳体下表面布置的第二气体分布器；

吸附剂层，所述第一气体分布器和所述第二气体分布器之间设有至少两层吸附剂层，相邻两层所述吸附剂层之间分别独立地设有气体再分布器，每层所述吸附剂层的上表面/下表面与所述气体分布器/所述气体再分布器之间形成有中空夹层；

保温层，所述保温层设在所述壳体外表面。

2.根据权利要求1所述的立式吸附器，其特征在于，所述壳体为中空筒状结构。

3.根据权利要求1或2所述的立式吸附器，其特征在于，每层所述吸附剂层分别独立地为选自煤制活性炭吸附剂层、椰壳制活性炭吸附剂层或分子筛吸附剂层中的至少一种；所述分子筛吸附剂层设在所述煤制活性炭吸附剂层和/或椰壳制活性炭吸附剂层上方；每层所述吸附剂层的上表面与所述气体分布器/所述气体再分布器之间形成有中空夹层，且每层所述吸附剂层的下表面止抵于所述气体再分布器/所述气体分布器。

4.根据权利要求3所述的立式吸附器，其特征在于，每层所述吸附剂层的高度分别独立地为5～10m，所述中空夹层的高度分别独立地为20～30cm，所述保温层的厚度为10～20cm。

5.一种气体纯化吸附系统，其特征在于，包括至少三个权利要求1～4中任一项所述的立式吸附器，每个所述立式吸附器分别独立地处于高压低温吸附状态、低压升温脱附状态或中压降温再生状态，其中：

处于高压低温吸附状态的立式吸附器具有待除杂高压低温气体入口和除杂后高压低温气体出口；

处于中压降温再生状态的立式吸附器具有除杂后高压低温气体入口和中压中温气体出口，所述除杂后高压低温气体入口与所述除杂后高压低温气体出口相连；

处于低压升温脱附状态的立式吸附器具有中压高温气体入口和低压高温气体出口，所述中压中温气体出口通过加热装置与所述中压高温气体入口相连。

6.根据权利要求5所述的气体纯化吸附系统，其特征在于，所述中压中温气体出口分别通过第一支路和第二支路与所述加热装置相连，所述第一支路上设有第一通气阀；所述第二支路上设有第二通气阀和换热装置，所述换热装置具有低温介质入口、换热后低温介质出口、高温介质入口和换热后高温介质出口，所述低温介质入口与所述中压中温气体出口相连，所述换热后低温介质出口与所述加热装置相连，所述高温介质入口与所述低压高温气体出口相连。

7.根据权利要求6所述的气体纯化吸附系统，其特征在于，进一步包括：测温装置，所述测温装置包括设在所述中压中温气体出口处的第一测温器件和设在所述低压高温气体出口处的第二测温器件，且所述测温装置适于基于所述第一测温器件和所述第二测温器件的显示控制所述第一通气阀和所述第二通气阀的开闭。

8.根据权利要求5或7所述的气体纯化吸附系统，其特征在于，进一步包括：在线监测仪，所述在线监测仪设在所述除杂后高压低温气体出口处，且所述在线监测仪适于基于除杂后高压低温气体的杂质浓度判断：所述除杂后高压低温气体出口与处于高压低温吸附状态的吸附器相连或与处于中压降温再生状态的吸附器相连。

9.根据权利要求6所述的气体纯化吸附系统，其特征在于，进一步包括：依次相连地冷却装置、压缩装置和冷凝净化装置，所述冷却装置与所述低压高温气体出口或所述换热后高温介质出口相连，所述冷凝净化装置的气体出口与所述待除杂高压低温气体入口和/或高纯气体储罐相连。

10.根据权利要求9所述的气体纯化吸附系统，其特征在于，进一步包括：除硼磷装置，所述除硼磷装置具有含硼磷气体入口、富硼富磷尾气出口和除硼磷气体出口，其中，

所述含硼磷气体入口与所述除杂后高压低温气体出口相连，所述除硼磷气体出口与所述高纯气体储罐相连；或者，

所述含硼磷气体入口与所述冷凝净化装置的气体出口相连，所述除硼磷气体出口与所述除杂后高压低温气体入口和/或所述高纯气体储罐相连。