[实用新型]一种高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备

权利要求书

1.一种高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备，包括密封板（1）和气缸（16），其特征在于：所述密封板（1）底部与壳体（12）固定连接，且壳体（12）底部安装有底箱（17），同时壳体（12）内部安装有固定支架（7），并且固定支架（7）内部固定连接有插块（8），插块（8）上安装有基板（5），固定支架（7）上侧安装有横板（6），且固定支架（7）右下侧与万向轮（13）固定连接，同时固定支架（7）底部与轴杆（14）固定连接，并且轴杆（14）端部通过轴承穿过动力箱（11）与转动齿轮（15）固定连接，真空管（19）的上端设置在壳体（12）内部，且真空管（19）的下端部与底箱（17）内部的真空装置固定连接；

所述气缸（16）的伸缩杆与动力箱（11）固定连接，且气缸（16）底部与壳体（12）内部底端固定连接，镀膜液喷管（2）设置在壳体（12）的内部，且镀膜液喷管（2）通过管道与底箱（17）内部的液体泵固定连接，横板（6）底部与连杆（20）固定连接，且连杆（20）穿过固定支架（7）与上压板（9）固定连接，同时连杆（20）上设置有定位板（22）。

2.根据权利要求1所述的一种高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备，其特征在于：所述镀膜液喷管（2）设置为两组分布在固定支架（7）的两侧，且固定支架（7）是由金属材质做成的剖面为工字形的结构。

3.根据权利要求1所述的一种高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备，其特征在于：所述横板（6）的下表面通过连杆（20）与上压板（9）固定连接，且连杆（20）沿着横板（6）的下表面均匀设置为12组，相邻两组连杆（20）之间的距离相等，连杆（20）上套接有复位弹簧（21），复位弹簧（21）设置在定位板（22）的上侧。

4.根据权利要求1所述的一种高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备，其特征在于：所述固定支架（7）内部的柱体上环形设置12组插块（8），且相邻两组插块（8）之间的距离相等，同时12组基板（5）的端部插接在插块（8）内开设的插槽中。

5.根据权利要求1所述的一种高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备，其特征在于：所述上压板（9）与下压板（10）内部均开设有与基板（5）厚度相适配的凹槽，基板（5）夹持在上压板（9）与下压板（10）内部的凹槽中。

6.根据权利要求1所述的一种高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备，其特征在于：所述动力箱（11）的表面开设有与万向轮（13）尺寸相适配的环形轨道，且万向轮（13）滚动连接在环形轨道内部，动力箱（11）两端限位板（4）内部均插接有限位杆（3）。

7.根据权利要求1所述的一种高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备，其特征在于：所述动力箱（11）内部安装有减速电机，且减速电机的输出轴通过联轴器与蜗杆（18）固定连接，且蜗杆（18）与转动齿轮（15）啮合连接。