[实用新型]烫印膜有效

专利信息
申请号: 202020503526.2 申请日: 2020-04-08
公开(公告)号: CN212148210U 公开(公告)日: 2020-12-15
发明(设计)人: 朱昊枢;叶瑞;孙营春;左志成;陈林森;朱志坚 申请(专利权)人: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏大维格(盐城)光电科技有限公司;苏州大学
主分类号: B44C1/165 分类号: B44C1/165;B32B27/36;B32B7/06;B32B27/06;B32B27/00
代理公司: 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 代理人: 蔡光仟
地址: 215123 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 烫印膜
【权利要求书】:

1.一种烫印膜,包括信息层和镀层,所述镀层设置在所述信息层上,其特征在于,所述信息层包括图像微纳结构和光标微纳结构,所述镀层包括第一镀层和第二镀层,所述第一镀层与所述光标微纳结构相互上下对应设置,所述第二镀层与所述图像微纳结构相互上下对应设置,所述第一镀层为金属反射镀层,所述第二镀层为透明介质镀层。

2.如权利要求1所述的烫印膜,其特征在于,所述光标微纳结构为用于增强光效的光线回射结构。

3.如权利要求2所述的烫印膜,其特征在于,所述光线回射结构为棱锥、棱台和棱柱其中的一种或任意组合。

4.如权利要求1所述的烫印膜,其特征在于,所述图像微纳结构和所述光标微纳结构的横向截面形状为弧形、三角形、正方形、矩形、梯形、或不规则形,或为两种以上任意形状的组合。

5.如权利要求1所述的烫印膜,其特征在于,所述烫印膜还包括基膜层、离型层和热熔胶层,所述离型层设置在所述基膜层上,所述信息层设置在所述离型层远离所述基膜层的一侧上,所述热熔胶层设置在所述镀层远离所述信息层的一侧上。

6.一种烫印膜,包括信息层,其特征在于,所述信息层包括光标微纳结构,所述光标微纳结构为用于增强光效的光线回射结构,所述光线回射结构为棱锥、棱台和棱柱其中的一种或任意组合。

7.如权利要求6所述的烫印膜,其特征在于,所述烫印膜还包括镀层,所述镀层设置在所述信息层上,所述信息层还包括图像微纳结构,所述镀层为一整体结构,或者所述镀层包括第一镀层和第二镀层,所述第一镀层与所述光标微纳结构相互对应设置,所述第二镀层与所述图像微纳结构相互对应设置,所述第一镀层为金属反射镀层,所述第二镀层为透明介质镀层。

8.如权利要求7所述的烫印膜,其特征在于,所述烫印膜还包括基膜层、离型层和热熔胶层,所述离型层设置在所述基膜层上,所述信息层设置在所述离型层远离所述基膜层的一侧,所述热熔胶层设置在所述镀层远离所述信息层的一侧上。

9.如权利要求7所述的烫印膜,其特征在于,所述图像微纳结构和所述光标微纳结构的横向截面形状为弧形、三角形、正方形、矩形、梯形、或不规则形,或为两种以上任意形状的组合。

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