[实用新型]用于污水处理工艺的反应装置

权利要求书

1.一种用于污水处理工艺的反应装置，其特征在于：其包括并排设置的三组反应池，三组反应池的宽度相同；

其中第一组反应池包括第一池体，所述的第一池体内部通过隔墙分隔为四组，分别为A1池、A2池、A3池、A4池，四组池的池容相同，所述的A1池和A2池并排位于所述第一池体的上方，所述的A3池和A4池并排位于所述的第一池体的下方，其中，所述的A1池和A3池为一列，所述的A2池和A4池为一列；

第二组反应池包括第二池体，所述的第二池体排布在所述的A2池和A4池之后；

第三组反应池包括自下而上依次排布的第五池体、第四池体及第三池体，所述的第三池体通过隔墙分隔为两组，分别为PA1池和PA2池，所述的PA1池位于所述的PA2池的上方；

所述的第一池体上设置有总进水管，所述的第五池体上设置有总出水管；

假设第一池体的面积为S1、总边长为a和b；第二池体的面积为S2，边长为a和c；第三池体的面积为S3，总边长为d和2d；第四池体的面积为S4，边长为d和e；第五池体的面积为S5,边长为d和f，所述面积与边长满足以下计量关系：

b＝a (1)；

c＝aS2/S1 (2):

2.根据权利要求1所述的一种用于污水处理工艺的反应装置，其特征在于：当所述边长d和f之积小于S5时，所述的第一池体内部通过隔墙分隔为上下两组，所述第一池体的边长分别为a/2和b。

3.根据权利要求1所述的一种用于污水处理工艺的反应装置，其特征在于：所述的第一池体为缺氧池，第二池体为好氧池，第三池体为后缺氧池，第四池体为后好氧池，第五池体为磁混凝沉淀池。

4.根据权利要求3所述的一种用于污水处理工艺的反应装置，其特征在于：位于第一池体的隔墙上均设置有过水口，分别包括A1池与A2池之间的A1池过水口、A3池与A4池之间的A3池过水口；在A2池和第二池体之间、A4池和第二池体之间、第二池体和第三池体之间、第三池体和第四池体之间、第四池体和第五池体之间也设置有隔墙，相对于的隔墙上分别设有A2池过水口、A4池过水口、第二池体过水口、第三池体过水口及第四池体过水口。

5.根据权利要求3所述的一种用于污水处理工艺的反应装置，其特征在于：位于第三池体的隔墙上设置有PA1池过水口。

6.根据权利要求3所述的一种用于污水处理工艺的反应装置，其特征在于：在所述的A2池与第二池体之间的隔墙前方、A4池与第二池体之间的隔墙前方，PA2池和第四池体之间的隔墙前方均设置有隔板，每块隔板距其各自对应的隔墙的水平距离为40cm，每块隔板其上沿在运行水位以上30cm，下沿低于运行水位的一半，所述运行水位与所述总出水管下沿安装高度相同。

7.根据权利要求3所述的一种用于污水处理工艺的反应装置，其特征在于：所述的第二池体的过水口前方设置有拦截筛网，所述的拦截筛网的上沿在运行水位的65％以下，下沿高于运行水位的35％，所述的运行水位，与所述的出水管的下沿安装高度相同。