[实用新型]一种树脂砂手工造型型内定位结构有效

专利信息
申请号: 202020295324.3 申请日: 2020-03-11
公开(公告)号: CN212144423U 公开(公告)日: 2020-12-15
发明(设计)人: 盖志宏;刘怀冰;刘全荣;孙新明 申请(专利权)人: 慈溪汇丽机电股份有限公司
主分类号: B22C21/10 分类号: B22C21/10;B22C21/12
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 沈栋栋
地址: 315000 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 树脂砂 手工 造型 定位 结构
【权利要求书】:

1.一种树脂砂手工造型型内定位结构,其特征在于,包括:上砂型和下砂型,所述上砂型与所述下砂型之间设有定位结构和导向结构;

所述定位结构包括:至少两阴模定位凹槽和至少两阳模定位凸起,两所述阴模定位凹槽分别与两所述阳模定位凸起定位配合,

所述导向结构包括:至少三第一导向槽、至少三第二导向槽和至少三锥形销,三所述第一导向槽分别与三所述第二导向槽相正对,三所述锥形销的一端分别伸入三所述第一导向槽内,三所述锥形销的另一端分别伸入三所述第二导向槽内。

2.根据权利要求1所述树脂砂手工造型型内定位结构,其特征在于,每一所述阴模定位凹槽的侧壁、每一所述阳模定位凸起的侧壁、每一所述第一导向槽的侧壁和每一所述第二导向槽的侧壁均呈倾斜设置。

3.根据权利要求2所述树脂砂手工造型型内定位结构,其特征在于,所述上砂型和所述下砂型均呈长方体设置,两所述阴模定位凹槽、两所述阳模定位凸起分别位于所述长方体的对角方向设置。

4.根据权利要求3所述树脂砂手工造型型内定位结构,其特征在于,每一所述阴模定位凹槽的侧壁形成有第一定位面和第二定位面,每一所述阳模定位凸起的侧壁形成有第三定位面和第四定位面,所述第一定位面、所述第二定位面、所述第三定位面和所述第四定位面均呈倾斜设置。

5.根据权利要求4所述树脂砂手工造型型内定位结构,其特征在于,两所述阴模定位凹槽设于所述上砂型的分型面,两所述阳模定位凸起设于所述下砂型的分型面,两所述阴模定位凹槽分别与两所述阳模定位凸起相正对。

6.根据权利要求5所述树脂砂手工造型型内定位结构,其特征在于,三所述第一导向槽设于所述上砂型的分型面,两所述第一导向槽分别位于两所述阴模定位凹槽内,三所述第二导向槽设于所述下砂型的分型面,两所述第二导向槽分别位于两所述阳模定位凸起内。

7.根据权利要求6所述树脂砂手工造型型内定位结构,其特征在于,所述第三定位面的下端与所述下砂型的侧面的上端处于同一平面上,且所述第三定位面的下端与所述下砂型的侧面的上端齐平,所述第四定位面的下端与所述下砂型的端面的上端处于同一平面上,且所述第四定位面的下端与所述下砂型的端面的上端齐平;

所述第一定位面的下端与所述上砂型的侧面的下端处于同一平面上,且所述第一定位面的下端与所述上砂型的侧面的下端齐平,所述第二定位面的下端与所述上砂型的端面的下端处于同一平面上,且所述第二定位面的下端与所述上砂型的端面的下端齐平。

8.根据权利要求4所述树脂砂手工造型型内定位结构,其特征在于,两所述阴模定位凹槽设于所述下砂型的分型面,两所述阳模定位凸起设于所述上砂型的分型面,两所述阴模定位凹槽分别与两所述阳模定位凸起相正对。

9.根据权利要求8所述树脂砂手工造型型内定位结构,其特征在于,三所述第一导向槽设于所述上砂型的分型面,两所述第一导向槽分别位于两所述阳模定位凸起内,三所述第二导向槽设于所述下砂型的分型面,两所述第二导向槽分别位于两所述阴模定位凹槽内。

10.根据权利要求9所述树脂砂手工造型型内定位结构,其特征在于,所述第三定位面的上端与所述上砂型的侧面的下端处于同一平面上,且所述第三定位面的上端与所述上砂型的侧面的下端齐平,所述第四定位面的上端与所述上砂型的端面的下端处于同一平面上,且所述第四定位面的上端与所述上砂型的端面的下端齐平;

所述第一定位面的上端与所述下砂型的侧面的上端处于同一平面上,且所述第一定位面的上端与所述下砂型的侧面的上端齐平,所述第二定位面的上端与所述下砂型的端面的上端处于同一平面上,且所述第二定位面的上端与所述下砂型的端面的上端齐平。

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