[实用新型]一种研磨液加湿系统有效
申请号: | 202020037490.3 | 申请日: | 2020-01-09 |
公开(公告)号: | CN211540870U | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 罗保兴 | 申请(专利权)人: | 上海吉啸电子科技有限公司 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02 |
代理公司: | 北京专赢专利代理有限公司 11797 | 代理人: | 于刚 |
地址: | 201499 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 研磨 加湿 系统 | ||
本实用新型涉及研磨液装置技术领域,具体公开了一种研磨液加湿系统,包括研磨液桶,在所述研磨液桶上安装一个加湿系统,所述加湿系统包括加湿器装置、N2供气装置和DIW供液装置,所述研磨液桶和所述加湿器装置均DRAIN2废液排出装置连接;所述DIW供液装置和N2供气装置均与所述加湿器装置连接;所述加湿器装置与研磨液桶连接;打开与加湿器装置连接的DIW供液装置的气动阀或手动阀和N2供气装置的手动阀,纯水和N2进入所述加湿器装置中,形成水雾进入与加湿器装置连接的研磨液桶内。本实用新型实施例提供的一种研磨液加湿系统,通过加湿器产生水蒸气,对研磨液进行加湿,减少研磨液结晶率。
技术领域
本实用新型涉及研磨液装置技术领域,具体是一种研磨液加湿系统。
背景技术
研磨液由磨粒分散于介质制备而成,是一种具有优良化学机械性能的研磨产品,可用于硅片、化合物晶体、精密光学器件、液晶面板、宝石、金属工件等的研磨抛光,而研磨液在使用过程时容易发生结晶的状况,研磨液效果降低,对机器造成损害。因此,如何解决上诉研磨液容易发生结晶情况,是本领域技术人员需要解决的技术问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种研磨液加湿系统,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种研磨液加湿系统,包括研磨液桶,在所述研磨液桶上安装一个加湿系统,所述加湿系统包括加湿器装置、N2供气装置和DIW供液装置,所述研磨液桶和所述加湿器装置均DRAIN废液排出装置连接;所述DIW供液装置和N2供气装置均与所述加湿器装置连接;所述加湿器装置与研磨液桶连接;
打开与加湿器装置连接的DIW供液装置的气动阀或手动阀和N2供气装置的手动阀,纯水和N2进入所述加湿器装置中,形成水雾进入与加湿器装置连接的研磨液桶内。
作为本实用新型进一步的方案:所述DIW供液装置以手动阀或气动阀作为开关,为所述加湿器装置提供纯水。
作为本实用新型进一步的方案:所述N2供气装置为所述加湿器装置提供N2。
与现有技术相比,在本实用新型实施例提供的研磨液加湿系统中:1、DIW纯水和N2通过加湿器形成水雾,有效减少研磨液结晶,减少研磨液更换频率,增强研磨液使用寿命。2、DRAIN废液排出装置可以收集加湿器和研磨液桶内废液,方便清洁,提高工作效率。综上所述,本实用新型实施例提供的一种研磨液加湿系统,通过加湿器产生水蒸气,对研磨液进行加湿,减少研磨液结晶率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例。
图1为本实用新型实施例提供的研磨液加湿系统的结构示意图。
图中:1-DIW供液装置,2-加湿器装置,3-研磨液桶,4-DRAIN废液排出装置,5-N2供气装置。
具体实施方式
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
请参阅图1,在本实用新型提供的实施例中,一种研磨液加湿系统,包括研磨液桶3,在所述研磨液桶3上安装一个加湿系统,所述加湿系统包括加湿器装置2、N2供气装置5和DIW供液装置1,所述研磨液桶3和所述加湿器装置2均DRAIN废液排出装置4连接;
所述DIW供液装置1和N2供气装置5均与所述加湿器装置2连接;所述加湿器装置2与研磨液桶3连接,所述加湿器装置喷出的水雾为纯水和N2;
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