[发明专利]一种高绝缘强度黑色哑光聚酰亚胺薄膜及其制备工艺在审

专利信息
申请号: 202011595027.1 申请日: 2020-12-28
公开(公告)号: CN112679953A 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 惠振京;石亚东 申请(专利权)人: 安徽省长荣新材料科技有限公司
主分类号: C08L79/08 分类号: C08L79/08;C08L27/18;C08K3/04;C08K9/00;C08J5/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 242200 安徽省宣*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 绝缘 强度 黑色 聚酰亚胺 薄膜 及其 制备 工艺
【权利要求书】:

1.一种高绝缘强度黑色哑光聚酰亚胺薄膜,其特征在于,按质量百分比包括以下原料:0.5-12%黑色颜料,0.5-12%消光剂,聚酰胺酸树脂;

所述黑色颜料为炭黑和氟化石墨烯的复配;所述消光剂为有机高分子材料;所述聚酰胺酸树脂是由二胺、二酐在非质子强极性溶剂中缩聚所得的固含量的聚酰胺酸树脂。

2.根据权利要求1所述的一种高绝缘强度黑色哑光聚酰亚胺薄膜,其特征在于:所述二胺、二酐摩尔比为1:0.98~1.011;所述聚酰胺酸树脂的黏度为50-150Pa·s。

3.根据权利要求1或2所述的一种高绝缘强度黑色哑光聚酰亚胺薄膜,其特征在于:所述二胺是对苯二胺、4,4-二氨基二苯醚、4,4-二氨基二苯基甲烷中的一种或两种;所述二酐为均苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-联苯四甲酸二酐、3,3’,4,4’-二苯醚四甲酸二酐中的一种或两种;所述非质子强极性溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡络烷酮中的一种。

4.根据权利要求1所述的一种高绝缘强度黑色哑光聚酰亚胺薄膜,其特征在于:所述炭黑为粒径≤0.1μm的低导电炭黑,所述氟化石墨烯粒径≤0.5μm,所述炭黑和氟化石墨烯复配比例为0~0.5:1。

5.根据权利要求1所述的一种高绝缘强度黑色哑光聚酰亚胺薄膜,其特征在于:所述有机高分子材料为粒径≤2μm的聚四氟乙烯粉末(PTFE)。

6.一种高绝缘强度黑色哑光聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、先将二胺加入非质子强极性溶剂中溶解,然后分步加入二酐进行反应,得到聚酰胺酸树脂;

S2、将炭黑加入到分散釜中,并加入溶剂一、分散剂进行研磨分散,搅拌釜转速800-3000r/min,研磨时间0.5-3h,得到黑色浆料;

S3、将消光剂加入到分散釜中,并加入溶剂二进行搅拌分散,搅拌釜转速800-2500r/min,研磨时间0.5-2h,得到白色浆液;

S4、将黑色浆料、白色浆料加入到聚酰胺酸树脂中,搅拌分散均匀,得到黑色聚酰胺酸树脂;

S5、将所述黑色聚酰胺酸树脂流延成膜,进行热亚胺化,并进行纵向拉伸、横向拉伸,即得。

7.根据权利要求6所述的一种高绝缘强度黑色哑光聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤S2中,所述溶剂一为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡络烷酮中的一种;所述分散剂为高分子量共聚物的烷基铵盐、带颜料亲和基团的高分子量嵌段共聚体溶液、带酸性基团聚酯结构的高分子液中的一种或多种,所述分散剂用量为所述黑色颜料质量的2-50%。

8.根据权利要求6所述的一种高绝缘强度黑色哑光聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤S3中,所述溶剂二为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡络烷酮中的一种。

9.根据权利要6所述的一种高绝缘强度黑色哑光聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤S4中,黑色聚酰胺酸树脂的黏度为50-120Pa·s;搅拌分散时间为2-5h。

10.根据权利要6所述的一种高绝缘强度黑色哑光聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,所述步骤S5中,流延温度为150-200℃,流延速度为3-6m/min;热亚胺化的条件为:100至450℃进行50℃梯度升温处理;纵向拉伸的比例为1:1.0-1.1,横向拉伸的比例为1:1.0-1.2。

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